窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲット 説明
窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲットは、ハイエンドスパッタリングアプリケーション向けに綿密に設計されています。精密製造技術を駆使した当社のターゲットは、卓越した純度(99%以上)と優れた性能の一貫性を提供します。先端技術向けに設計されたターゲットは、高温条件下でも完全性を維持し、ディスクや特注設計などカスタマイズ可能な形状を提供することで、特定のアプリケーション要件を満たします。
窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲット用途
- 電子機器製造:ディスプレイ・スクリーン、半導体、回路基板用の高品質薄膜およびコンポーネントの製造に不可欠。
- 表面コーティング:さまざまな基板上に均一で耐久性のあるコーティングを成膜するためのスパッタプロセスに適用される。
- 先端研究:高純度と性能の一貫性が重要な材料科学研究に最適。
- 工業処理:厳しい条件下で安定したスパッタリング性能を必要とするプロセスで使用されます。
窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲットパッキング
当社の窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲットは、原始的な品質を維持するため、管理された条件下で慎重に梱包されています。製品は真空密封され、輸送中の汚染を防ぐためにしっかりと梱包されます。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: 窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主にスパッタリングプロセスで使用され、電子部品やデバイスの高品質薄膜やコーティングを形成します。
Q: 窒化アルミニウム(AlN)の主な特性は何ですか?
A: 高い熱伝導性です:AlNは非常に高い熱伝導率(約170~200W/mK)で知られており、熱管理用途に最適です。
電気絶縁性:優れた電気絶縁体であり、導体間の絶縁が必要な電子部品に使用されています。
機械的強度AlNは、高温や機械的ストレスに耐えることができる硬く耐久性のある材料です。
圧電特性AlNは圧電特性を示し、センサーやアクチュエーターに有用です。
高温安定性:AlNは、劣化することなく1600℃以上の温度に耐えることができます。
Q: 窒化アルミニウム(AlN)薄膜はどのような産業に役立ちますか?
A: 窒化アルミニウム(AlN)薄膜の恩恵を受ける産業は以下の通りです:
エレクトロニクス:エレクトロニクス:熱管理、誘電体層、半導体のコンデンサ。
電気通信:高い熱伝導性と電気絶縁性を必要とするマイクロ波や高周波の用途。
光学光学コーティングや反射防止フィルムの製造に使用される。
航空宇宙優れた熱伝導性と絶縁性を必要とする高温センサーや電子部品に使用される。
自動車高熱下で動作するパワーエレクトロニクスや制御システムの電子部品に。
医療機器医療技術のセンサーやアクチュエーターなどの圧電デバイスに使用される。