窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲット 説明
窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲットは、高精度薄膜蒸着プロセス用に設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、標準的なディスク形状、または特定の産業要件に合わせたカスタムメイドのソリューションとしてご利用いただけます。優れた熱安定性と安定した性能により、高度なスパッタリングやコーティング用途に信頼できる材料として選ばれています。
窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造マイクロエレクトロニクスデバイスの高品質薄膜成膜に最適。
- 光学コーティング:精密光学部品の製造に利用。
- 研究開発最先端の研究所で、材料の革新や分析に使用される。
- エネルギー・デバイス太陽電池やその他のエネルギーシステムの部品製造に適している。
窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲットパッキング
当社の窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲットは、その高純度と構造的完全性を維持するために慎重に梱包されています。標準パッケージには、保管および輸送中にターゲットを保護するように設計された真空密封容器が含まれており、ご要望に応じてカスタムパッケージングオプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: 窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体、光学コーティング、電子デバイス製造の薄膜蒸着に使用されます。
Q: ターゲットの形状やサイズをカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状のほか、特定のアプリケーションのニーズを満たすカスタムメイドのデザインも可能です。
Q: 製造中の高純度(99%以上)はどのように維持されるのですか?
A: 製品は厳格な品質管理手順を経ており、高純度を確保・維持するために高度な製造技術を利用しています。
Q: ~1250℃という融点は、製品について何を示しているのですか?
A: 融点は材料の優れた熱安定性を反映しており、高温スパッタリングやコーティングプロセスに最適です。
Q: 窒化ゲルマニウム(Ge3N4)スパッタリングターゲットはどのように保管すればよいですか?
A: 汚染を防ぎ、最適な性能を確保するため、管理された条件下で、清潔で乾燥した環境に保管する必要があります。