窒化ニオブ(NbN)スパッタリングターゲット 説明
窒化ニオブ(NbN)スパッタリングターゲットは、精密な薄膜成膜を必要とする高度な産業用途向けに特別に設計されています。99%以上の高純度で製造されたこのターゲットは、RFスパッタリングプロセスで優れた性能を発揮するように設計されています。標準的なディスクやオーダーメイドの構成を含むカスタマイズ可能な形状により、様々な技術において多目的な応用が可能です。融点は2573℃、密度は8.47g/cm³と高く、過酷な条件下でも安定した性能を発揮します。
窒化ニオブ(NbN)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:マイクロエレクトロニクス、太陽光発電、光学コーティングに最適です。
- フォトニクス:レーザーやその他のフォトニックデバイスのコンポーネントの製造に使用されます。
- 半導体デバイス高精度の半導体部品の製造に対応。
- 超電導フィルム超電導エレクトロニクスの新分野に応用。
- 研究開発先端材料の研究や実験用途に適しています。
窒化ニオブ(NbN)スパッタリングターゲットパッキング
当社のNbNスパッタリングターゲットは、保管および輸送中の完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
- 真空密封包装により、汚染物質からの保護が保証されます。
- ディスクは、取り扱い中の損傷を防ぐため、カスタマイズされた容器に安全に入れられます。
- 梱包サイズは、お客様のご要望に応じて対応いたします。
よくある質問
Q: NbNスパッタリングターゲットは薄膜形成にどのような利点をもたらしますか?
A: NbNスパッタリングターゲットは、高純度で安定性が高く、電子・光応用に不可欠な均一な薄膜コーティングを実現します。
Q: どのスパッタリング技術がこのターゲットと互換性がありますか?
A: NbNターゲットはRFおよびRF-Rスパッタリングプロセスに最適化されており、様々な成膜システムで優れた性能を発揮します。
Q: スパッタリングターゲットのカスタムサイズはどのように依頼できますか?
A: お客様は、特定のアプリケーション要件を満たすために、注文プロセス中に希望の寸法と形状を指定することができます。
Q: NbNスパッタリングターゲットを使用することで最も恩恵を受けるのはどのような業界ですか?
A: マイクロエレクトロニクス、フォトニクス、半導体製造、研究所などの業界は、その高度な特性から大きな恩恵を受けています。
Q: 梱包・出荷プロセスにおいて、品質はどのように維持されるのですか?
A: 当社の製品は、輸送中の汚染や物理的損傷を防ぐため、カスタマイズされた容器に真空密封され、安全に梱包されています。