窒化バナジウム(VN)スパッタリングターゲット商品概要
窒化バナジウム(VN)スパッタリングターゲットは、要求の厳しい成膜環境において優れた均一性と耐久性を実現するために最先端の技術で設計されています。その高純度組成は、半導体製造、薄膜蒸着、表面処理などの用途において、一貫したスパッタリング特性と最適な性能を保証します。
窒化バナジウム(VN)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:集積回路やデバイス製造における薄膜蒸着に不可欠。
- 薄膜蒸着:制御された微細構造を持つ均一なコーティングの形成に最適。
- 光電子デバイス:発光ダイオードや太陽電池に高い信頼性を提供します。
- 表面コーティング工具や部品の耐摩耗性と性能を向上させます。
- 研究開発次世代スパッタリングターゲット開発のための先端材料研究に使用。
窒化バナジウム(VN)スパッタリングターゲットパッキング
当社のVNスパッタリングターゲットは、高純度状態を維持するために厳しい品質管理の下で梱包されています。
真空包装:5kg/袋、25kg/ドラム。
よくある質問
Q: VNスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: このターゲットは、主に半導体製造、オプトエレクトロニクス、表面コーティング技術における薄膜蒸着に使用されます。
Q: 純度レベルはターゲットの性能にどのように影響しますか?
A: 99%以上の高純度は、安定したスパッタリング性能を保証し、汚染を最小限に抑え、蒸着膜の全体的な品質を向上させます。
Q: ターゲットはカスタマイズできますか?
A: はい、VNスパッタリングターゲットは、特定の装置やアプリケーションの要件に適合するよう、標準ディスクまたはカスタムメイドの形状で製造することができます。
Q: CAS番号の意味は何ですか?
A: CAS番号(24646-85-3)は窒化バナジウムを一意に識別し、適切なトレーサビリティと業界規制への準拠を保証します。
Q: VNスパッタリングターゲットに特別な取り扱いは必要ですか?
A: ターゲットのスパッタリング性能に影響を与える汚染や機械的損傷を避けるため、慎重に取り扱うことをお勧めします。