窒化ジルコニウム(ZrN)スパッタリングターゲット 説明
窒化ジルコニウム(ZrN)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着技術用に設計された高性能材料です。卓越した純度(99%以上)で製造されたこのスパッタリングターゲットは、堅牢な耐摩耗性、優れた密着性、装飾的な黄金色の外観を必要とする用途において、信頼性の高い成膜を保証します。優れた物理特性とRFスパッタリング機能により、ハイエンド半導体デバイス、装飾コーティング、表面保護層に最適です。
窒化ジルコニウム(ZrN)スパッタリングターゲット用途
- マイクロエレクトロニクス半導体デバイスの薄膜として成膜し、性能と耐久性を向上。
- 装飾用コーティング:消費者製品や建築要素に魅力的な金色の仕上げを施すために使用される。
- 工具コーティング優れた耐摩耗性を提供し、切削工具や機械加工工具の寿命を延ばす。
- 航空宇宙腐食や熱応力に対する耐性を向上させる保護膜として使用される。
- 工業用部品過酷な条件下で高い硬度と耐久性が要求される部品の製造に使用される。
窒化ジルコニウム(ZrN)スパッタリングターゲットパッキング
当社の窒化ジルコニウムスパッタリングターゲットは、保管および輸送中に高純度と構造的完全性を維持するために慎重に梱包されます。ディスク用の真空密封パックや特定の産業要件に合わせた大量注文など、カスタマイズされたパッケージングオプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットにZrNを使用する利点は何ですか?
A: ZrNは、優れた耐摩耗性、高硬度、装飾的な金色の外観を提供し、これらは機能的および審美的な用途の両方で価値があります。
Q: スパッタリングターゲットは形状やサイズをカスタマイズできますか?
A: はい、当社の窒化ジルコニウム・スパッタリング・ターゲットは標準ディスクで入手可能ですが、お客様の仕様に応じてカスタムメイドすることもできます。
Q: このターゲットと互換性のあるスパッタリング方法は何ですか?
A: このターゲットはRFおよびRF-Rスパッタリング技法に最適化されており、様々な成膜システムにおいて汎用性があります。
Q: ZrNの高純度(99%以上)はスパッタリングプロセスにどのように役立ちますか?
A: 高純度であるためコンタミネーションが最小限に抑えられ、優れた膜質、密着性の向上、薄膜蒸着における安定した性能につながります。
Q: 窒化ジルコニウム・スパッタリング・ターゲットは高温用途に適していますか?
A: 2980℃の融点と優れた熱特性を持ち、高温と熱応力を伴う用途に適しています。