フッ化アルミニウム(AlF3)スパッタリングターゲット 説明
フッ化アルミニウム(AlF3)スパッタリングターゲットは、特に半導体やディスプレイ製造工程における精密コーティング用途向けに設計されています。優れた純度で製造され、ディスクなどのカスタム形状で利用可能なこのターゲットは、厳しいスパッタリング条件下で一貫した性能を発揮します。信頼性の高い組成と熱安定性により、ハイテク産業用途に最適です。
フッ化アルミニウム(AlF3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体デバイスやディスプレイパネルに均一な膜を形成するのに適しています。
- 光学コーティング:レンズや光学部品の保護層や反射層の成膜に使用されます。
- 太陽電池効率的な光電池層の製造を促進する。
- 工業用コーティング様々なハイテク製造工程における高性能コーティングをサポート。
- 研究開発先端材料研究における実験セットアップやプロトタイプ作製に適しています。
フッ化アルミニウム(AlF3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のフッ化アルミニウム(AlF3)スパッタリングターゲットは、保管および輸送中の完全性を確保するために慎重に梱包されています。お客様の特定の要件を満たすために、カスタマイズされた梱包オプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q: フッ化アルミニウム(AlF₃)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体デバイス、ディスプレイパネル、光学コーティングの薄膜成膜に使用されます。
Q: スパッタリングターゲットの高純度はどのように維持されていますか?
A: ターゲットは、99%以上の純度を確保するため、厳格な品質管理の下で製造されています。
Q: ターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、お客様のご要望に応じ、ディスクを含むカスタムメイドの形状が可能です。
Q: このスパッタリングターゲットにとって重要な熱特性は何ですか?
A: 融点1291℃、密度3.1g/cm³で、高温プロセスでの熱安定性に優れています。
Q: フッ化アルミニウム(AlF₃)スパッタリングターゲットは大規模な工業用途に適していますか?
A: はい、一貫した組成と高い性能により、工業規模の製造および生産工程に理想的な選択となります。