フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲット 説明
フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲットは、高度な工業プロセスにおける高性能スパッタリング用途向けに設計されています。 綿密な品質管理により製造されたこのターゲットは、信頼性の高い成膜に不可欠な均一な材料特性を保証します。高純度で高温下でも安定しているため、エレクトロニクス、光学コーティング、その他の精密用途に最適です。さらに、カスタマイズ可能な形状により、特定の製造需要に合わせたソリューションが可能です。
フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲット用途
- 表面コーティング:様々な基板上に薄く均一な膜を成膜するスパッタリングプロセスで利用される。
- 半導体製造:光学部品や絶縁層の製造に重要な役割を果たす。
- 光学デバイス:紫外域と赤外域の透過特性に優れているため、レンズやその他の光学機器の製造に使用される。
- 高温プロセス:極端な高温下でも完全性を維持する材料が必要な用途に適している。
フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲットパッキング
当社のフッ化カルシウムスパッタリングターゲットは、輸送中の材料の完全性を維持するために慎重に梱包されています。オプションとして、少量(1袋5kgなど)用の真空密封包装や大量注文用のバルク包装があり、製品がすぐに使用できる最適な状態で到着することを保証します。
よくある質問
Q: フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲットを使用すると、どのような業界でメリットがありますか?
A: 半導体製造、光学機器製造、高温表面コーティングプロセスなどの業界では、高純度CaF2スパッタリングターゲットを使用することで大きなメリットが得られます。
Q: CaF2スパッタリングターゲットの高純度(99%以上)はどのように確保されていますか?
A: 純度は、製造工程における厳格な品質管理措置と、汚染物質を除去するための高度な精製技術によって確保されています。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状に加え、特定の操作要件や装置要件に合わせてターゲットをカスタムメイドすることができます。
Q: CaF2スパッタリングターゲットの主な性能は何ですか?
A: 1418℃の高い融点、安定した密度、一貫した材料特性、高温および精密用途での優れた性能などが挙げられます。
Q: フッ化カルシウム・スパッタリング・ターゲットはどのように保管または取り扱えばよいですか?
A: 清潔で乾燥した環境で保管し、汚染を避けるために適切な道具を使用して慎重に取り扱う必要があります。