フッ化サマリウム(SmF₃)スパッタリングターゲットの説明
フッ化サマリウム(SmF₃)スパッタリングターゲットは、ハイエンドの工業プロセスにおける性能と信頼性のために設計されています。精密かつ高純度で製造されたこのターゲットは、半導体製造から光学デバイス製造に至るまで、最適なスパッタリング効率を保証します。そのユニークな特性は、厳しい条件下でも優れた一貫性と耐久性を可能にし、研究および高度な製造環境で好まれる選択肢となっています。
フッ化サマリウム(SmF₃)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:集積回路やマイクロエレクトロニクスデバイスの薄膜成膜に最適。
- 光学コーティング高精度の光学部品の製造に使用されます。
- 研究開発実験セットアップの一貫した再現性のある結果を可能にします。
- 特殊な工業プロセス高純度スパッタリングターゲットを必要とするあらゆる用途に適しています。
フッ化サマリウム(SmF₃)スパッタリングターゲットパッキング
当社のフッ化サマリウム(SmF₃)スパッタリングターゲットは、輸送中の高品質を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
真空シール包装:通常、1袋5kg入りですが、お客様のご要望に応じてカスタマイズすることも可能です。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットの化学組成は?
A: 純度99%以上の高純度フッ化サマリウム(SmF₃)を使用しています。
Q: この製品にはどのような形状がありますか?
A: 製品は円盤状で入手可能ですが、特定の要求に応じて特注することもできます。
Q: フッ化サマリウム(SmF₃)の融点を教えてください。
A: フッ化サマリウム(SmF₃)の融点は1306℃です。
Q:製品はどのように梱包されて出荷されますか?
A: 真空包装で、一般的な包装は1袋5kgですが、カスタム包装も可能です。
Q: フッ化サマリウム(SmF₃)スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 半導体製造、光学コーティング、研究開発、特殊な工業プロセスにおける薄膜蒸着に最適です。