フッ化アルミニウムナ トリウム (Na5Al3F14) スパッタリングターゲット 説明
フッ化アルミニウムナトリウム(Na5Al3F14)スパッタリングターゲットは、高度なスパッタリングアプリケーション用に設計されており、高性能と卓越した安定性を提供します。99%以上の純度を確保するために綿密に制御された組成により、電子および半導体製造における均一な薄膜の成膜に最適な性能を発揮します。カスタマイズ可能な形状は、標準ディスクまたはオーダーメイドで提供され、厳しい条件下でも優れた物理的特性を維持しながら、特定のアプリケーション要件に対応します。
フッ化アルミニウムナトリウム(Na5Al3F14)スパッタリングターゲット用途
- エレクトロニクス製造半導体デバイスやディスプレイパネルの均一な薄膜形成に最適です。
- 表面コーティング:保護膜や機能膜のスパッタリングプロセスで利用される。
- 真空蒸着:真空環境下での高品質精密コーティングに効果的。
- 研究開発高度な材料研究や革新的なコーティング技術に適しています。
フッ化ナトリウムアルミニウム(Na5Al3F14)スパッタリングターゲットパッキング
当社のフッ化ナトリウムアルミニウムスパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の高品質と完全性を維持するために慎重に梱包されています。パッケージングオプションには、真空封止ディスクが含まれ、特定のお客様の要件に合わせたカスタムパッケージングも可能です。
よくある質問
Q: 純度99%以上のスパッタリングターゲットにはどのような利点がありますか?
A: 高純度であることで、スパッタリングプロセス全体を通して、安定した成膜、最小限のコンタミネーション、信頼性の高い性能を実現します。
Q: ターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準ディスクとして入手可能ですが、特定の設計や用途のニーズに合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: このスパッタリングターゲットが最も適している産業は?
A: エレクトロニクス製造、半導体デバイス製造、ディスプレイパネル製造、先端材料研究に最適です。
Q: 融点(~1020℃)はターゲットの性能にどのような影響を与えますか?
A: 融点が高いため熱安定性に優れ、高温で動作するプロセスに適しています。
Q: この製品にはどのようなパッケージングオプションがありますか?
A: スパッタリングターゲットは真空密封包装で納品され、お客様のご要望に応じてサイズをカスタマイズすることができます。