フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲット 説明
フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲットは、優れた純度と一貫性を確保するために高度な製造技術を用いて設計されています。卓越した熱安定性、カスタマイズ可能な形状、信頼性の高いスパッタリング性能により、マイクロエレクトロニクス、光学、表面コーティング用途の精密薄膜成膜に最適です。
フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲット用途
- マイクロエレクトロニクス半導体製造における薄膜成膜に最適。
- 光学コーティング:レンズやミラーの高品質光学層に利用。
- ディスプレイ技術:プラズマディスプレイやLCDディスプレイの性能を向上させる。
- 表面技術工業用工具や部品に耐久性のあるコーティングを提供。
- 研究開発先端材料研究における実験的スパッタリングプロセスに最適です。
フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲットパッケージング
当社のフッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲットは、高純度と性能を維持するために真空密封容器に梱包されています。安全な輸送と保管を保証するため、お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: フッ化ナトリウム(NaF)のCAS番号を教えてください。
A: フッ化ナトリウム(NaF)のCAS番号は7681-49-4です。
Q: このターゲットではどのスパッタリング技術を使用できますか?
A: このターゲットはRF、RF-R、DCスパッタリング法に対応しています。
Q: ターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい。この製品は標準ディスクとして入手可能ですが、特定の要件を満たすために特注することもできます。
Q: フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A: ターゲットの純度は99%以上です。
Q: フッ化ナトリウムスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: マイクロエレクトロニクス、光学、ディスプレイ技術、表面工学、先端材料研究で広く使用されています。