フッ化イッテルビウム (YbF3) スパッタリングターゲット 説明
フッ化イッテルビウム(YbF₃)スパッタリングターゲットは、高度な蒸着技術用に特別に開発された高性能材料です。精密機械加工と厳格な品質管理により、このターゲットは様々な電子および光学用途に優れた純度と一貫性を提供します。その堅牢な物理特性は、要求の厳しいスパッタリングプロセスにおいて最適な性能を保証し、最先端の薄膜製造に最適な選択肢となります。
フッ化イッテルビウム(YbF3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:電子機器や光学機器の高品質コーティングに不可欠。
- マイクロエレクトロニクス:集積回路製造や半導体デバイス製造に最適。
- オプトエレクトロニクス高度な光学コーティングやフォトニックデバイスの製造に使用される。
- 研究開発実験および試作用途に信頼性の高い材料性能を提供します。
- カスタム産業プロセス高純度で安定した性能を必要とする特殊なスパッタリングプロセスに適しています。
フッ化イッテルビウム(YbF3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のフッ化イッテルビウムスパッタリングターゲットは、輸送および保管中に製品の完全性を維持するために慎重に梱包されています。
梱包オプション標準サイズの真空封入包装が可能で、ご要望に応じてカスタム包装も承ります。
よくある質問
Q: フッ化イッテリビウムスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主にエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、先端研究用途の薄膜蒸着に使用されます。
Q: 特注のサイズや形状の製造は可能ですか?
A: はい、当社のスパッタリングターゲットは、お客様のご要望に応じてカスタムメイドできます。
Q: 高純度(99%以上)はスパッタリングプロセスにどのような影響を与えますか?
A: 高純度であるためコンタミが少なく、優れた膜質、スパッタ効率の向上、安定した性能が得られます。
Q: ターゲットの理想的な保管条件は?
A: 性能を維持するためには、湿気や汚染物質を避け、清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。
Q: 輸送中に特別な取り扱い方法はありますか?
A: はい、ターゲットはダメージを防ぎ、輸送中も最適な状態を保つよう、真空パックされ、慎重に梱包されています。