マグネシウムシリサイド(Mg2Si)スパッタリングターゲットの説明
マグネシウムシリサイド(Mg2Si)スパッタリングターゲットは、高度なスパッタリングアプリケーションのために設計されたプレミアム、高純度材料を提供します。 Mg₂Siの組成と99%の最小純度で、このターゲットは、RF、RF-R、およびDCスパッタリングを含むスパッタリング技術の範囲にわたって一貫した性能を提供するように設計されています。その制御された融点と密度は、半導体製造と薄膜技術に理想的な正確な蒸着と膜の均一性を保証します。カスタマイズ可能な形状は、特定の装置やプロセス要件との互換性を確保し、用途に合わせたアプリケーションを可能にします。
マグネシウムシリサイド(Mg2Si)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイスの高品質薄膜の製造に不可欠です。
- 半導体製造高度な集積回路製造に必要な信頼性の高い性能を提供します。
- 表面コーティング:溶射やレーザークラッディングプロセスに最適で、耐摩耗性と耐食性を向上させます。
- 先端研究新しい成膜技術を探求するために精密な材料が不可欠な研究開発環境に適しています。
ケイ化マグネシウム(Mg2Si)スパッタリングターゲットパッキング
当社のケイ化マグネシウムスパッタリングターゲットは、製品の完全性を保つために細心の注意を払って梱包されています。各ターゲットは、安全な輸送と保管を保証するために、帯電防止、耐湿性、カスタム設計の容器にしっかりと梱包されます。梱包オプションは、特定の注文サイズおよび配送要件に合わせることができます。
よくある質問
Q: ケイ化マグネシウム (Mg2Si) スパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: 半導体製造、薄膜蒸着、表面コーティングプロセス、および様々な先端研究用途で広く使用されています。
Q: どのスパッタリング法がこのターゲットと互換性がありますか?
A: このターゲットはRF、RF-R、DCスパッタリング法に対応しており、様々な成膜システムに対応できます。
Q: 製造中、製品の純度はどのように保たれていますか?
A: 当社のターゲットは、厳格な品質管理プロセスのもと製造されており、高性能アプリケーションに不可欠な99%以上の純度を確保しています。
Q: 特殊な装置用のカスタム形状はありますか?
A: はい、標準ディスクに加え、特定の装置構成やアプリケーション要件に合わせたカスタムメイドの形状も可能です。
Q: 安全な梱包と輸送のために、どのような対策がとられていますか?
A: 各ターゲットは、静電気防止、耐湿性容器に安全に梱包され、保管中および輸送中の製品の完全性を確保するための梱包オプションが用意されています。