モリブデンシリサイド(MoSi2)スパッタリングターゲット 説明
モリブデンシリサイド(MoSi2)スパッタリングターゲットは、スパッタリングプロセスにおいて高い均一性と性能を保証する製品を提供するために、高度な材料加工技術を用いて開発されました。高い融点と優れた密度は、マイクロエレクトロニクス、太陽電池、その他の精密コーティング技術における要求の厳しい用途に最適です。そのRFスパッタリング能力は、効率的なターゲット侵食と安定した薄膜成膜を保証し、優れた膜質とデバイス性能を可能にします。
モリブデンシリサイド(MoSi2)スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイスマイクロエレクトロニクスおよび集積回路用の薄膜成膜に使用されます。
- 太陽電池光の吸収と効率を高めるために、耐久性と安定性に優れたコーティングを提供します。
- 微細加工:MEMSやセンサー用途の精密で均一な薄膜層の形成に最適。
- 表面コーティング様々な基材に耐摩耗性と熱安定性を付与する高度なコーティングプロセスで使用される。
ケイ化モリブデン(MoSi2)スパッタリングターゲットパッキング
当社のケイ化モリブデン(MoSi2)スパッタリングターゲットは、保管および輸送中の完全性と性能を維持するために細心の注意を払って梱包されています。特定のお客様のご要望にお応えするため、カスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。標準梱包には、汚染や機械的ストレスから保護するように設計された真空密封容器が含まれます。
よくある質問
Q: MoSi2ターゲットにはどのようなスパッタリング法を推奨しますか?
A: MoSi2ターゲットで最適な蒸着性能を得るには、RFスパッタリングを推奨します。
Q: MoSi2スパッタリングターゲットにはどのような形状がありますか?
A: ターゲットはディスクとして入手可能ですが、特定のアプリケーションのニーズに合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: 純度保証はどの程度ですか?
A: MoSi2スパッタリングターゲットは99%以上の純度を保証しています。
Q: 高融点はスパッタリングプロセスにどのように役立ちますか?
A: 高融点(2030℃)であるため、熱安定性に優れ、高エネルギー条件下でも効率的なスパッタリングが可能です。
Q: スパッタリングターゲットは使用前にどのように保管すればよいですか?
A: 汚染を防ぎ、最高の性能を保証するため、適切な包装(真空密封容器など)を施し、清潔で乾燥した環境で保管することを推奨します。