ニッケルシリサイド(NiSi2)スパッタリングターゲット 説明
ニッケルシリサイド(NiSi2)スパッタリングターゲットは、マイクロエレクトロニクスおよび材料科学アプリケーションにおける高度な蒸着技術用に設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、スパッタリングプロセスにおいて信頼性の高い性能を確保するために精密に設計されています。990℃の高い融点と4.85g/cm³の密度は、均一な薄膜や高度なコーティングの製造に最適です。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズが開発したこの製品は、標準ディスクを含むカスタマイズ可能な形状、または特定のアプリケーション要件に対応するオーダーメイドの構成でご利用いただけます。
ニッケルシリサイド(NiSi2)スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイス製造集積回路の高品質シリサイド層の形成に不可欠です。
- 表面技術導電性コーティングや保護コーティングの成膜に最適。
- マイクロエレクトロニクス微細形状や高性能コンタクトの形成をサポートします。
- 研究開発革新的なスパッタリングおよび蒸着研究のための信頼性の高い材料を提供します。
ニッケルシリサイド(NiSi2)スパッタリングターゲットパッキング
当社のニッケルシリサイド(NiSi2)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。製品の純度と性能を保証するため、管理された条件下で製品を密封するカスタムパッケージングオプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: ニッケルシリサイドスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体デバイス製造や表面コーティング用途に使用され、高品質の成膜を実現します。
Q: 純度99%以上のスパッタリングターゲットはどのような利点がありますか?
A: 高純度であるため不純物が少なく、安定したスパッタリング性能と優れた品質の薄膜が得られます。
Q: シリサイドニッケルスパッタリングターゲットはカスタマイズできますか?
A: はい、標準ディスクやオーダーメイドの構成など、サイズや形状をカスタマイズすることが可能です。
Q: このスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: 半導体、マイクロエレクトロニクス、先端材料研究業界で広く使用されています。
Q: 品質保持のための保管方法を教えてください。
A: 汚染から保護し、性能を維持するために、管理された条件下、できれば真空密封包装で保管する必要があります。