硫化カルシウム(CaS)スパッタリングターゲットの説明
硫化カルシウム(CaS)スパッタリングターゲットは、純度99%以上のCaS組成で、厳しい品質基準に従って製造されています。精密で効率的なスパッタリング蒸着用に設計されたこのターゲットは、高温処理環境における一貫性と安定性を保証します。堅牢な特性とカスタマイズ可能な形状により、電子デバイス製造から光学コーティング、先端材料科学の研究まで、幅広い用途に最適です。
硫化カルシウム(CaS)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体および光電子デバイス用の高品質薄膜の製造に使用されます。
- 電子デバイス製造:集積回路やセンサーに均一な層を形成するためのスパッタリング・プロセスに利用される。
- 光学コーティングミラー、レンズ、その他の光学部品の製造に使用される蒸着技術に信頼性の高い材料を提供する。
- 研究開発:新しい材料アプリケーションやコーティングに焦点を当てた研究所や産業研究開発プロジェクトに最適です。
硫化カルシウム(CaS)スパッタリングターゲットパッキング
硫化カルシウム(CaS)スパッタリングターゲットは、その純度と性能を維持するために安全に梱包されます。保護梱包方法には、真空密封容器やお客様のご要望に合わせたカスタム梱包ソリューションがあります。標準包装は、用途と数量のニーズに基づいてカスタマイズ可能なサイズでご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットとは、物理的気相成長(PVD)プロセスで使用される固体材料で、スパッタリングメカニズムを通して基板上に薄膜を蒸着させます。
Q: CaSスパッタリングターゲットを使用すると、どのような用途で最もメリットがありますか?
A: エレクトロニクス、光学コーティング、先端研究のアプリケーションでは、CaSスパッタリングターゲットの高純度かつ安定した性能が特に役立ちます。
Q: このターゲットに特注形状は可能ですか?
A: はい、硫化カルシウム(CaS)スパッタリングターゲットは、ディスクとして、または特定のお客様のご要望にお応えするカスタムメイドとしてご利用いただけます。
Q: CaSの高融点はスパッタリングプロセスでの性能にどのように影響しますか?
A: 2525℃という高い融点は、高温スパッタリングプロセスにおいてターゲットの構造的完全性と性能を維持することを保証します。
Q: CaSスパッタリングターゲットの純度と一貫性を保証するためにどのような対策がとられていますか?
A: ターゲットは厳格な品質管理のもと製造されており、純度99%以上を保証しています。