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Stanford Advanced Materials
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  • ST0278 硫化ゲルマニウム（GeS）スパッタリングターゲット

    • ST0278 硫化ゲルマニウム（GeS）スパッタリングターゲット

    カタログ番号 ST0278
    構成 ジーエス
    CAS番号 12025-32-0
    純度 ≥99%
    形状 ディスク、オーダーメイド

    硫化ゲルマニウム（GeS）スパッタリングターゲットは、高精度薄膜蒸着において卓越した性能を発揮するように設計されています。スタンフォードアドバンストマテリアルズでは、最先端技術と厳格な品質管理を組み合わせ、業界の期待を上回るスパッタリングターゲットをお届けしています。

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    最終推奨

    ST0001 アルミニウム（Al）スパッタリングターゲット
    ST0002 アンチモン（Sb）スパッタリングターゲット
    ST0003 バリウム（Ba）スパッタリングターゲット
    ST0004 ビスマス（Bi）スパッタリングターゲット
    ST0005 ホウ素（B）スパッタリングターゲット
    ST0006 カドミウム（Cd）スパッタリングターゲット
    ST0007 カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット
    ST0008 セリウム（Ce）スパッタリングターゲット
    ST0009 クロム（Cr）スパッタリングターゲット

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