セレン化ガリウム(Ga2Se3)スパッタリングターゲット 説明
セレン化ガリウム(Ga2Se3)スパッタリングターゲットは、ハイテクスパッタリング用途で卓越した性能を発揮するように設計されています。99%以上の純度と精密に制御された組成により、このターゲットは薄膜および半導体製造プロセスにおいて均一で信頼性の高い成膜を実現します。カスタマイズ可能な形状は、標準ディスクまたはオーダーメイドで入手可能で、高温条件下での安定性を維持しながら、特定のアプリケーション要件に対応します。
セレン化ガリウム(Ga2Se3)スパッタリングターゲット用途
- エレクトロニクス半導体デバイスや薄膜回路の製造に最適です。
- 薄膜蒸着:太陽電池や光電子デバイスに均一な材料分布を提供します。
- センサー製造:高感度センサーや光検出器の製造に適している。
- 研究開発:最先端の研究室での先端材料研究やプロトタイプ開発に使用されます。
セレン化ガリウム(Ga2Se3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のセレン化ガリウム(Ga2Se3)スパッタリングターゲットは、保管中および出荷中に製品の完全性を維持するため、厳重に梱包されています。 各ユニットは、帯電防止、防湿梱包されています。特定の輸送および取り扱い要件に対応するため、ご要望に応じてカスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットの組成と純度は?
A: ターゲットは純度99%以上のGa₂Se₃で構成されています。
Q: スパッタリングターゲットはどのような形状で製造できますか?
A: 標準的なディスク形状のほか、特定の要件に基づいたカスタムメイドも可能です。
Q: ターゲットはすべてのスパッタリングシステムに適合しますか?
A: はい、様々なスパッタリングシステムで最適な性能を発揮するように設計されていますが、特殊な用途の場合はシステムの互換性を確認することをお勧めします。
Q: ターゲットは高温プロセスに耐えられますか?
A: もちろんです。融点は~960℃で、高温スパッタリングや蒸着プロセスに適しています。
Q: 特注サイズのターゲットの注文方法を教えてください。
A: 仕様を弊社営業チームまでご連絡ください。