セレン化タンタル(TaSe2)スパッタリングターゲット 説明
セレン化タンタル(TaSe2)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着プロセス用に設計された精密工学材料です。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、需要の高い産業用途において一貫した性能と長寿命を保証します。その高い融点と制御された密度は、極端な処理条件下での回復力を必要とする用途に理想的です。最先端の製造技術を用いて開発されたこのターゲットは、半導体、ディスプレイ、センサー産業における高品質のスパッタリングプロセスをサポートします。
セレン化タンタル(TaSe2)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクスデバイス製造における高品質で均一な膜の成膜に不可欠。
- ディスプレイ技術:LCD、OLEDディスプレイ、タッチパネルなどの薄膜アプリケーションに最適。
- センサー製造精密センサーデバイスに必要な信頼性の高い膜特性を提供します。
- 研究開発新しい薄膜材料やコーティングの実験セットアップや開発に適しています。
セレン化タンタル(TaSe2)スパッタリングターゲットパッキング
当社のセレン化タンタル・スパッタリング・ターゲットは、保管中および輸送中の製品の完全性を維持するため、厳重に梱包されています。
真空シール包装:通常、1袋あたり5kgですが、ご要望に応じてそれ以上の量も承ります。
よくある質問
Q: タンタルセレンスパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 高品質の薄膜が求められる半導体製造、ディスプレイ技術、センサー製造、研究開発用途に最適です。
Q: ターゲットの純度は性能にどのように影響しますか?
A: 高純度(99%以上)であるためコンタミネーションが少なく、膜の均一性が向上し、成膜プロセスの性能が向上します。
Q: ターゲットは特定のスパッタリングシステム用にカスタマイズできますか?
A: はい、さまざまなスパッタリングシステムの特定の要件を満たすために、利用可能なサイズをカスタマイズすることができます。
Q: このターゲットの高融点にはどのような意味がありますか?
A: 高い融点(2000℃)は、ターゲットが劣化することなくスパッタリングプロセス中の高温に耐えることを保証します。
Q: 品質保持のためにターゲットはどのように保管すればよいですか?
A: 清潔で乾燥した環境で保管し、汚染や湿気への暴露を防ぐため、付属の真空シール包装を使用することをお勧めします。