セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲット 説明
セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲットは、要求の厳しいハイテク用途で卓越した性能を発揮するように設計されています。厳格な管理と高純度原料を使用して作られたこのターゲットは、一貫した成膜と優れた膜の均一性を保証します。そのRFスパッタリング能力は、正確に維持された物理的特性と相まって、半導体製造、オプトエレクトロニクス、および高度な薄膜アプリケーションに理想的です。
セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲット用途
- 半導体薄膜蒸着集積回路やマイクロエレクトロニクスのための非常に均一なコーティングを実現します。
- オプトエレクトロニクスデバイスLED、レーザー、光検出器の製造に最適です。
- 光学コーティング:精密な光学的透明性を必要とするフィルター、レンズ、窓の製造に使用される。
- 表面技術:微細加工やその他の先端プロセスにおいて、部品の性能と耐久性を向上させる。
セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲットパッキング
当社のセレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲットは、輸送中の製品の完全性を保つために細心の注意を払って梱包されています。しっかりと真空密封されており、個々のプロジェクト要件に合わせてカスタマイズされたサイズをご利用いただけます。
よくある質問
Q: セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体やオプトエレクトロニクス用途の高品質薄膜の成膜に使用されます。
Q: セレン化亜鉛スパッタリングターゲットの純度はどのように保たれていますか?
A: 厳格な製造管理と高品位原料の使用により純度を確保しており、常に99%以上の純度を達成しています。
Q: このターゲットにはどのようなスパッタリング法を推奨しますか?
A: 最適な膜の均一性と成膜効率を達成するために、これらのターゲットにはRFスパッタリングを推奨します。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズの特注は可能ですか?
A: はい、製品はディスクで入手可能で、特定のサイズや形状の要件を満たすために特注することもできます。
Q: スパッタリングターゲットにはどのような接合材料が使用されていますか?
A: ターゲットはインジウムとエラストマー結合を利用しており、スパッタリングプロセス中に優れた熱的・電気的安定性を提供します。