テルル化アルミニウム(AlTe)スパッタリングターゲット 説明
テルル化アルミニウム(AlTe)スパッタリングターゲットは、高精度の製造技術を用いて開発され、厳しい業界基準を満たす製品をお届けします。純度99%以上のこのターゲットは、ディスクまたは特注の形状にカスタマイズ可能で、高度なスパッタリングプロセス用に設計されています。約830℃の融点と4.5g/cm³の密度を含む堅牢な物理特性により、厳しい産業環境にも適しています。
テルル化アルミニウム(AlTe)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびディスプレイ産業における均一で高品質な薄膜の製造に最適です。
- 表面コーティングスパッタリングシステムで、さまざまな基板上に耐摩耗性コーティングや導電性コーティングを成膜するために使用されます。
- マイクロエレクトロニクスマイクロエレクトロニクスデバイスやセンサーの部品製造に不可欠。
- 研究開発:新しい材料特性や成膜技術を研究するため、学術・産業界の研究開発現場で広く使用されている。
テルル化アルミニウム(AlTe)スパッタリングターゲットパッキング
当社のアルミニウムテルライド(AlTe)スパッタリングターゲットは、完全性を維持するために管理された条件下で梱包されています。各ターゲットは、安全な輸送と取り扱いを確実にするため、保護パッケージに慎重に密封されます。お客様の仕様に基づいたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: AlTeスパッタリングターゲットはどのような用途に使用されますか?
A: 主に、半導体製造、表面コーティング、マイクロエレクトロニクスなどの産業や研究開発室での薄膜蒸着に使用されます。
Q: ターゲットはどのように製造されますか?
A: ターゲットは、高純度(99%以上)と均一な特性を保証する高度な精密工学技術を用いて製造され、厳しい品質基準を満たしています。
Q: スパッタリングターゲットの形状にはどのようなものがありますか?
A: ターゲットは円盤状で入手可能ですが、特定のアプリケーション要件に応じてカスタムメイドすることも可能です。
Q: スパッタリングターゲットのサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、様々なスパッタリングシステムやアプリケーションのユニークなニーズを満たすために、利用可能なサイズはカスタマイズ可能です。
Q: この製品にはどのような品質管理措置がとられていますか?
A: 当社の製品は、材料組成の確認、純度試験、性能評価などの厳格な品質管理手順を経ており、業界最高水準を満たしています。