アンチモンテルル (Sb2Te3) スパッタリングターゲットの説明
アンチモンテルル(Sb2Te3)スパッタリングターゲットは、RFスパッタリングプロセス用に最適化された高性能材料です。99%以上の純度を確保するために精密に製造されたこのターゲットは、一貫した組成と優れたスパッタリング性能を提供します。融点が高く、密度が調整されているため、半導体デバイス、センサー、光学コーティングの薄膜作製に不可欠です。さらに、特注形状のオプションにより、ユニークなプロジェクト要件に対応する汎用性を提供します。
アンチモンテルル (Sb2Te3) スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体デバイス、センサー、光学コーティングの製造に最適。
- 表面コーティング:工業用途の耐食性および耐摩耗性層の形成に利用される。
- エレクトロニクス均一な薄膜が重要なマイクロエレクトロニクス部品の製造に最適。
- オプトエレクトロニクス精密な材料特性を必要とする熱電デバイスやその他のハイテクシステムの用途に対応。
アンチモンテルル (Sb2Te3) スパッタリングターゲットパッキング
当社のアンチモンテルライドスパッタリングターゲットは、保管および輸送中も製品の完全性を維持するため、慎重に梱包されています。 特定のお客様のご要望にお応えするため、カスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: 純度99%以上のスパッタリングターゲットにはどのような利点がありますか?
A: 99%以上の純度は不純物を最小限に抑え、均一な成膜と全体的な性能の向上につながります。
Q: ターゲットの形状はディスク以外でも可能ですか?
A: はい、特殊なアプリケーションのニーズに応えるため、カスタムメイドの形状を提供しています。
Q: このターゲットは主にどのスパッタリングプロセスに最適化されていますか?
A: このスパッタリングターゲットはRFスパッタリング用に最適化されており、安定した信頼性の高い性能を保証します。
Q: どのような産業用途に最適ですか?
A: 半導体製造における薄膜蒸着、耐久性向上のための表面コーティング、オプトエレクトロニクスデバイス製造に最適です。
Q: スパッタリングターゲットの品質と一貫性はどのように確保されていますか?
A: 厳密な製造工程と厳格な品質管理措置により品質を維持し、各ターゲットが高性能基準を満たすようにしています。