ガリウムテルル(Ga2Te3)スパッタリングターゲットの説明
スタンフォードアドバンストマテリアルズが提供するガリウムテルル(Ga2Te3)スパッタリングターゲットは、スパッタリングおよび薄膜蒸着アプリケーションにおいて卓越した性能を発揮するように設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、高温での構造的完全性を維持しながら、信頼性の高い一貫した性能を提供します。ディスクや特殊なカスタム形状を含むカスタマイズ可能な形状により、様々な蒸着システムへの汎用的な統合が可能です。精密に設計され、半導体および先端材料産業で要求される厳しい品質基準を満たしています。
ガリウムテルライド(Ga2Te3)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:電子機器製造における高品質薄膜成膜に最適です。
- 表面コーティング:さまざまな基板上に均一なコーティングを成膜するスパッタリングプロセスで利用される。
- 研究開発:材料科学やナノテクノロジーの先端研究に適しています。
- カスタム産業用途:特殊なスパッタリングシステムにおけるカスタムメイドのターゲットに最適。
ガリウムテルル(Ga2Te3)スパッタリングターゲットの梱包
当社のガリウムテルライドスパッタリングターゲットは、完全な状態で到着するよう細心の注意を払って梱包されます。梱包ソリューションは、各ターゲットの特定の要件を満たすようにカスタマイズされ、保管中および輸送中に製品の完全性を維持するための安全な保護包装を提供します。
よくある質問
Q: ガリウムテルル スパッタリング ターゲットの純度レベルを教えてください。
A: 高い性能と信頼性を確保するため、純度レベルは99%以上に維持されています。
Q: ターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットはディスク状で入手可能ですが、特定の設計要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。
Q: ガリウムテルライド(Ga2Te3)スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 半導体製造、薄膜表面コーティング、先端材料研究に最適です。
Q: 融点はスパッタリングターゲットの性能にどのように影響しますか?
A: 融点が825℃であるため、高温スパッタリング条件下でもターゲットは安定した性能を維持します。
Q: 梱包の際、製品の品質を保証するためにどのような対策がとられていますか?
A: ターゲットはカスタマイズされた安全なソリューションに梱包され、保管や輸送中に製品を保護し、高品質を保つように設計されています。