ニオブテルル (NbTe2) スパッタリングターゲットの説明
ニオブテルル(NbTe2)スパッタリングターゲットは、高度な工業用スパッタリングアプリケーション向けに設計されています。99%以上の純度で製造されるこのターゲットは、標準ディスクまたは特定の製造要件を満たすためのカスタマイズされた形状として利用可能な、多様な設計オプションを提供します。 7.7 g/cm³の密度とハイエンドの蒸着プロセスに合わせて調整されたこのターゲットは、電子デバイス、太陽電池、およびその他の重要なアプリケーション用の薄膜の作成において一貫した性能を提供します。
ニオブテルル (NbTe2) スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:マイクロエレクトロニクスおよびフォトニクス産業における半導体ウェハーのコーティングに最適。
- 太陽電池製造:高効率太陽電池の吸収体層の成膜に使用されます。
- 工業用コーティング:工業用部品の耐摩耗層や保護層の製造に使用される。
- 研究開発:材料科学研究所の実験セットアップに適している。
ニオブテルル(NbTe2)スパッタリングターゲット包装
当社のスパッタリングターゲットは、出荷時および保管時の完全性を維持するために厳重に梱包されています。
梱包の詳細
- 保護ケース入りの標準梱包をご用意しております。
- 特定の取り扱いおよび出荷要件を満たすため、ご要望に応じてカスタム梱包ソリューションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットとは、物理的気相成長(PVD)プロセスで使用される材料ソースで、ターゲットから粒子を放出し、基板上に堆積させて薄膜を形成します。
Q: NbTe₂スパッタリングターゲットを使用することでどのような産業が恩恵を受けますか?
A: 半導体製造、太陽電池製造、工業用コーティングなどの業界は、NbTe₂スパッタリングターゲットの高純度と一貫した品質から利益を得ています。
Q: このスパッタリングターゲットの99%以上の純度はどのようにして達成されるのですか?
A: 高純度は、管理された製造工程と厳格な品質管理手段によって達成され、最終製品の不純物を最小限に抑えています。
Q: カスタム形状は可能ですか?
A: はい、当社のスパッタリングターゲットは、標準的なディスク形状だけでなく、特定のアプリケーション要件に合わせたカスタムメイドのオプションもご用意しています。
Q: スパッタリングターゲットの取り扱いにはどのような注意が必要ですか?
A: 汚染を避け、成膜プロセス中に最適な性能を確保するためには、ターゲットを清潔な環境で取り扱い、適切な保管プロトコルに従うことが重要です。