ジルコン酸カルシウム(CaZrO3)スパッタリングターゲット 説明
ジルコン酸カルシウム(CaZrO3)スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着技術における高信頼性性能のために設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、半導体製造および工業用コーティングに不可欠な一貫性と耐久性を提供します。2345℃の高い融点と5g/cm³の堅牢な密度は、厳しい高温環境においても安定した動作を保証します。
ジルコン酸カルシウム (CaZrO3) スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体および電子デバイス製造における高品質膜の製造に最適です。
- 表面コーティング工業用途での性能向上のための耐久性のあるコーティングを提供します。
- 先端エレクトロニクス:マイクロエレクトロニクスデバイスの製造や研究に利用されています。
- 産業用工具コーティングされた部品の耐摩耗性と寿命を向上させます。
- 研究開発実験的で革新的なコーティングプロセスに適しています。
ジルコン酸カルシウム(CaZrO3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のジルコン酸カルシウムスパッタリングターゲットは、輸送および保管中の最大限の保護を保証するために慎重に梱包されています。通常、耐湿性があり、静電気を発生させない材料で梱包され、特定のアプリケーション要件に合わせて梱包オプションをカスタマイズすることができます。
よくある質問
Q: ジルコン酸カルシウムスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造や表面コーティングプロセスにおける薄膜蒸着に使用されます。
Q: 高融点はスパッタリングターゲットの性能にどのように役立ちますか?
A: 2345℃という高い融点は、高温成膜プロセスにおける安定性と信頼性を保証し、熱劣化のリスクを低減します。
Q: ジルコン酸カルシウムスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: このターゲットは、半導体製造、電子デバイス製造、工業用コーティング、研究用途で広く使用されています。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、ジルコン酸カルシウム・スパッタリング・ターゲットは、特定のアプリケーション要件を満たすために、ディスクまたはカスタムメイドの構成でご利用いただけます。
Q: 99%以上の純度はスパッタリングターゲットの効果にどのように影響しますか?
A: 高純度レベルはコンタミネーションを最小限に抑え、一貫した高品質の薄膜の成膜を保証します。