酸化バリウムセリウム(BaCeO₃)スパッタリングターゲットの説明
酸化バリウムセリウム(BaCeO₃)スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着およびコーティング用途で信頼性の高い性能を実現するため、高度な加工技術を用いて設計されています。高純度(99%以上)でカスタマイズ可能な形状は、標準ディスクまたはカスタム設計として利用でき、精度と耐久性が要求される産業に最適です。この材料の堅牢な特性は、高温条件下でも完全性を維持することを保証し、高度なエレクトロニクスやエネルギー用途に特に適しています。
酸化バリウムセリウム(BaCeO₃)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体製造および電子デバイス製造に不可欠。
- コーティング技術:高度なコーティングシステムにおける熱およびプラズマスパッタリングプロセスに最適。
- 研究開発:材料科学や工学研究の実験セットアップによく使用される。
- エネルギー用途:高性能燃料電池やセラミック部品に適している。
酸化バリウムセリウム(BaCeO₃)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化バリウムセリウムスパッタリングターゲットは、保管および輸送中も品質と純度を維持するため、真空密封状態で慎重に梱包されます。標準梱包オプションは、1袋5kgまたは1ドラム25kgで、ご要望に応じてカスタマイズ梱包も可能です。
よくある質問
Q: 酸化バリウムセリウムスパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 半導体製造、先端コーティングプロセス、研究実験、エネルギー用途での薄膜蒸着に最適です。
Q: このスパッタリングターゲットに特注サイズや形状はありますか?
A: はい、標準的な円板形状のほか、お客様の仕様に基づいた特注形状も可能です。
Q: 製造中の高純度レベル(99%以上)はどのように維持されていますか?
A: 製造工程では、厳格な品質管理措置と高度な加工技術を採用し、材料が一貫して指定純度以上に保たれるようにしています。
Q: このスパッタリングターゲットを使用すると、どのような産業でメリットがありますか?
A: 半導体エレクトロニクス、エネルギー、先端材料研究などの業界では、成膜やコーティングの用途で優れた性能を発揮する本製品に信頼を寄せています。
Q: 酸化バリウムセリウムスパッタリングターゲットはどのように保管、取り扱えばよいですか?
A: 汚染を防ぐため、乾燥した清潔な環境でスパッタリングターゲットを保管することをお勧めします。