モリブデン(Mo)スパッタリングターゲット 説明
平面モリブデン(Mo)スパッタリングターゲットは、DCスパッタリング技術による薄膜蒸着用に設計された高純度材料です。厳格な品質管理措置の下で製造されたこのターゲットは、99%以上の純度を達成し、平面構成でご利用いただけるほか、特定の産業要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。このターゲットは均一なスパッタリングに最適化されており、半導体製造、光学コーティング、表面工学の用途に最適です。
モリブデン(Mo)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体、マイクロエレクトロニクス、集積回路製造に不可欠。
- 光学コーティングレンズ、ミラー、その他の光学部品に均一で高品質なコーティングを提供。
- 表面技術スパッタ蒸着により、産業用工具や部品の耐摩耗性や耐食性を向上。
- 研究開発:材料科学研究所の実験セットアップやプロセス開発に広く使用されている。
モリブデン(Mo)スパッタリングターゲットの梱包
製品は、保管および輸送中に完全性を保つために細心の注意を払って梱包されます。通常、ターゲットは真空密封され、材料が汚染されることなく高性能特性を維持できるよう、カスタマイズされたパッケージングソリューションで固定されます。
よくある質問
Q: Moスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: Moスパッタリングターゲットは、半導体製造、光学コーティング、表面工学、研究所などで広く使用されています。
Q: Moターゲットの純度はどのように保たれているのですか?
A: ターゲットは厳格な品質管理と高度な分析試験を受け、厳格な業界標準に準拠した99%以上の純度を確保しています。
Q: スパッタリングターゲットは特定の装置に合わせてカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準的な平面フォーマットで提供されており、お客様の仕様に基づいたカスタムメイドも可能です。
Q: このターゲットにはどのようなスパッタリング技術を推奨しますか?
A: このターゲットは特にDCスパッタリングプロセス用に設計されており、最適な薄膜成膜を実現します。
Q: 使用前の保管方法を教えてください。
A: 品質保持のため、ターゲットは清潔で乾燥した環境で保管する必要があり、汚染を防ぐため、できればオリジナルの真空密封パッケージで保管する必要があります。