チタン(Ti)スパッタリングターゲット 説明
平面チタン(Ti)スパッタリングターゲットは、高度な産業用途で卓越した性能を発揮するように設計されています。 最先端の冶金技術で製造されたこのターゲットは、高純度レベル(99%以上)を維持し、精密スパッタリングに不可欠な優れた物理的特性を提供します。その平面設計は、半導体製造や薄膜製造などの重要なプロセスにおいて、均一な材料成膜を保証します。このターゲットは、カスタマイズ可能なサイズと堅牢な構造により、幅広いハイテク用途に対応します。
チタン(Ti)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクス用の均一な薄膜を作成するための物理蒸着(PVD)に利用されます。
- 表面コーティング:さまざまな産業用途の保護膜や機能膜の成膜に使用。
- 光学フィルム光学機器用の反射膜や反射防止膜の製造に使用される。
- 研究開発先端材料研究における実験セットアップやプロトタイピングに最適です。
チタン(Ti)スパッタリングターゲットパッキング
当社の平面チタンスパッタリングターゲットは、輸送中の完全性を維持し、信頼性の高い性能を確保するために細心の注意を払って梱包されています。通常、汚染から保護するために真空密封されていますが、特定の輸送要件に合わせて追加の梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: 平面チタン(Ti)スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 半導体製造、表面コーティング、光学フィルム製造、様々な研究開発用途で使用される物理蒸着(PVD)プロセスに最適です。
Q: 平面チタンスパッタリングターゲットはどのように製造されますか?
A: ターゲットは、精密なスパッタリングに不可欠な高レベルの純度(99%以上)と一貫した構造品質を保証する高度な冶金プロセスを使用して製造されます。
Q: ターゲットはカスタマイズできますか?
A: はい、お客様独自のご要望にお応えするため、サイズや形状のカスタマイズを承っております。
Q: チタンターゲットはどのような品質基準を満たしていますか?
A: 当社の製品は厳格な品質管理のもと製造されており、高純度スパッタリングターゲットの業界標準に準拠しています。
Q: ターゲットはどのように保管、取り扱えばよいですか?
A: 清潔で乾燥した環境で保管し、表面の完全性を維持するために取り扱いに注意してください。