硫化銀(Ag2S)スパッタリングターゲット 説明
硫化銀(Ag2S)スパッタリングターゲットは、高品質で信頼性の高いスパッタ蒸着を必要とする高度な産業用途向けに設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、薄膜蒸着プロセスにおいて卓越した一貫性を提供します。汎用性の高いスパッタリング適合性(RF、RF-R、DC)により、エレクトロニクス、光学、微細加工産業における高性能コーティングの製造に理想的です。特注形状のオプションにより、幅広い産業要件への適応性がさらに高まります。
硫化銀(Ag2S)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:半導体デバイスの均一な薄膜形成に最適です。
- マイクロエレクトロニクス集積回路や電子部品の性能を向上させます。
- 光学コーティング:反射膜や反射防止膜の成膜に適しています。
- 研究開発:実験用デバイスの製造や材料試験に利用される。
硫化銀(Ag2S)スパッタリングターゲットパッキング
硫化銀(Ag2S)スパッタリングターゲットは、輸送中の高純度と完全性を維持するためにしっかりと梱包されています。輸送中の最適な保護を確保するため、真空密封包装やカスタムコンテナなど、お客様のご要望に合わせたオプションをご用意しています。
よくある質問
Q: このターゲットはどのスパッタリング技術に適合しますか?
A: RF、RF-R、DCスパッタリング法に対応しています。
Q: ターゲットは特注の形状やサイズで製造できますか?
A: はい、特定の寸法要件を満たすカスタムメイドのオプションを提供しています。
Q: 硫化銀(Ag2S)スパッタリングターゲットの純度レベルはどのくらいですか?
A: 製品は99%以上の純度で製造されています。
Q: 品質保持のため、ターゲットはどのように梱包されていますか?
A: 輸送中の汚染を防ぎ、材料の完全性を維持するように設計された、安全な真空密封容器に梱包されています。
Q: このスパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 半導体製造、マイクロエレクトロニクス、光学コーティング、研究開発に最適です。