酸化カルシウム(CaO)スパッタリングターゲット 説明
酸化カルシウム(CaO)スパッタリングターゲットは、半導体およびコーティング製造における精密スパッタリングプロセス用に設計されています。純度99%以上のこのターゲットは、ディスクまたはカスタムメイドの構成で提供され、高熱負荷下でも安定した性能を発揮します。RFスパッタリング用に特別に設計され、安定したプラズマ条件を提供するため、信頼性が高く高品質な成膜を必要とする用途に最適です。
酸化カルシウム(CaO)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクスデバイスの誘電層および絶縁層の成膜に最適です。
- 表面コーティング様々な基板上の保護膜や機能膜の成膜に使用されます。
- 薄膜蒸着:電子・光学デバイス製造における均一な薄膜形成に適しています。
- 研究開発:実験的スパッタリングプロセスや先端材料の研究に最適です。
酸化カルシウム(CaO)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化カルシウムスパッタリングターゲットは、保管および輸送中の製品の完全性を保証するため、高品質で安全な容器に梱包されています。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: 酸化カルシウム(CaO)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、表面コーティング、先端研究用途の薄膜蒸着プロセスに使用されます。
Q: このターゲットにはどのようなスパッタリングプロセスが推奨されますか?
A: このターゲットは特にRFスパッタリング用に設計されており、安定したプラズマと均一な材料成膜を実現します。
Q: ターゲットの純度はどの程度ですか?
A: 酸化カルシウム(CaO)スパッタリングターゲットは99%以上の純度で製造されており、高品質で信頼性の高い性能を保証します。
Q: ターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定のデザインやサイズの要件に応じてカスタムメイドすることもできます。
Q: 品質保持のため、ターゲットはどのように保管すべきですか?
A: 汚染物質のない清潔で乾燥した環境で保管し、使用中はその完全性を保つために注意深く取り扱う必要があります。