カーボン(C)スパッタリングターゲット 説明
カーボン(C)スパッタリングターゲットは、先端製造および半導体アプリケーションにおける優れたスパッタリング性能のために設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、安定した高品質の薄膜成膜を保証します。カスタマイズ可能な形状は、ディスクまたは特注設計として利用可能で、ユーザーは特定の用途に合わせて製品を調整することができます。高い融点と堅牢な構造は、厳しい使用条件下でも優れた熱安定性と信頼性を保証します。
カーボン(C)スパッタリングターゲット用途
- エレクトロニクス半導体デバイスや集積回路の製造に最適。
- 表面コーティング炭素系コーティングの真空蒸着プロセスで使用される。
- 薄膜蒸着:様々な技術用途の高品質炭素膜の製造に使用される。
- 工業用コーティング:自動車、航空宇宙、化学産業における保護コーティングに適している。
- 研究開発:実験研究や先端材料研究に最適。
カーボン(C)スパッタリングターゲットパッキング
当社のカーボン(C)スパッタリングターゲットは、保管および輸送中の完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。ターゲットは、納品時に最適な状態を確保するための保護手段を用いて真空密封されています。標準梱包オプションには、1袋5kgまたは1ドラム25kgが含まれ、特定の要件に基づいてカスタマイズすることも可能です。
よくある質問
Q: CAS番号7440-44-0は何を示していますか?
A: これは元素状炭素の固有の識別子であり、材料の化学的同一性を確認するものです。
Q: 99%以上の純度はスパッタリング性能にどのように影響しますか?
A: 高純度は不純物を最小限に抑え、安定した再現性のあるスパッタリングと成膜プロセスを実現します。
Q: カーボン(C)スパッタリングターゲットにはどのような形状がありますか?
A: ターゲットは標準ディスクとして提供されますが、特定のアプリケーションのニーズに合わせてカスタムメイドすることも可能です。
Q: カーボン(C)スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: エレクトロニクス製造、薄膜蒸着、表面コーティング、および高性能炭素材料を必要とする様々な工業プロセスに最適です。
Q: カーボン(C)スパッタリングターゲットはどのように梱包されて出荷されますか?
A: 輸送中の製品の完全性を確保するため、1袋5kgまたは1ドラム25kgの標準オプションで、真空密封され安全に梱包されます。