酸化カドミウム(CdO)スパッタリングターゲット 説明
酸化カドミウム(CdO)スパッタリングターゲットは、様々な高度な産業用途における精密薄膜成膜用に設計されたプレミアム材料です。高度な製造技術により開発されたこのターゲットは、卓越した均一性と信頼性を提供します。その高純度(99%以上)と融点1550℃、密度8.15g/cm³などの最適化された物理的特性は、半導体、光センサー、特殊電子部品などのデバイスにおける高性能を保証します。
酸化カドミウム(CdO)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイスにおける均一な薄膜の製造に最適です。
- 光学コーティング:レンズ、太陽電池、ディスプレイパネル用の高品質光学層の製造に応用される。
- センサー技術:精密な薄膜特性を必要とするガスセンサーなどに採用されている。
- 研究開発:先端材料研究やイノベーションにおける実験セットアップに適している。
酸化カドミウム(CdO)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化カドミウム(CdO)スパッタリングターゲットは、保管および輸送中の製品の完全性を維持するため、細心の注意を払って梱包されています。 通常、ターゲットは真空密封され、お客様の仕様に従ってカスタム梱包されるため、ターゲットが原始的な状態で到着することが保証されます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットは、電子、光学、センサー用途の様々な基板上に薄膜を形成するためのスパッタ蒸着プロセスで使用される材料です。
Q: CdOスパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: CdOスパッタリングターゲットは、その高純度と優れた成膜性能により、半導体デバイス、光学コーティング、センサー技術に最適です。
Q: CdOの物理的特性は薄膜形成にどのように役立ちますか?
A: CdOの高い融点、密度、純度により、安定した均一な薄膜形成が可能になります。
Q: この製品の形状はカスタマイズできますか?
A: はい、当社の酸化カドミウム(CdO)スパッタリングターゲットは標準ディスクで入手可能ですが、特定の生産要件を満たすために特注することもできます。
Q: 出荷時の製品の品質はどのように保たれていますか?
A: ターゲットは真空密封され、汚染や物理的損傷から保護するためにしっかりと梱包され、設置時に最適な性能を保証します。