酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲット 説明
酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲットは、最新の工業プロセスにおける精密用途向けに設計されたプレミアム材料です。 高度な製造技術を使用して製造され、優れた純度(99%以上)と均一な組成を保証し、標準ディスク形状とカスタムメイド設計の両方でご利用いただけます。2531℃の卓越した融点と4.7g/cm³の密度を持つこのターゲットは、要求の厳しいスパッタリング環境において最適な熱安定性と信頼性の高い性能を発揮するように設計されています。インジウムとエラストマーボンディングの採用により、耐久性と成膜効率がさらに向上し、電子デバイス製造や薄膜アプリケーションに不可欠なコンポーネントとなっています。
酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲット用途
- スパッタリング蒸着電子デバイスにおける高性能薄膜の製造に最適。
- 薄膜コーティング:光学コーティング、半導体製造、保護層に最適。
- マイクロエレクトロニクス小型回路部品の成膜プロセスに不可欠。
- 研究開発高温安定性と化学的精度を必要とする研究に適している。
酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲットは、厳密な品質管理プロトコルに従って梱包され、原始的な状態で到着することを保証します。標準的な梱包には、保護材、帯電防止材、緩衝材が含まれ、お客様のご要望に応じて、真空シールやカスタム梱包のオプションもご用意しています。
よくある質問
Q: 酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲットの主な特徴は何ですか?
A: 高純度(99%以上)、優れた熱安定性、ディスクまたは特注形状でのカスタマイズ可能な設計を誇り、スパッタリング用途での最適な性能を保証します。
Q: ターゲットにはどのような接合方法が採用されていますか?
A: このターゲットは、スパッタリングプロセス中、堅牢な機械的および熱的完全性を維持するために、インジウムおよびエラストマーボンディングを採用しています。
Q: 酸化ストロンチウム(SrO)スパッタリングターゲットは特定の用途向けにカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特殊な設計要件を満たすために特注することもできます。
Q: この種のスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: エレクトロニクス、光学、マイクロエレクトロニクス、高温・高純度材料が不可欠な研究所などで広く使用されています。
Q: SrOターゲットの品質と純度はどのように保証されていますか?
A: 厳密な製造プロトコルと品質管理対策により、最適なスパッタリング性能を実現するための一貫した材料特性とともに、99%以上の純度レベルを確保しています。