バリウムセリウムイットリウムジルコネートスパッタリングターゲットの説明
バリウムセリウムイットリウムジルコネートスパッタリングターゲットは、高純度のBaCe(1-x-y)Y(x)Zr(y)O3セラミック酸化物から製造されており、スパッタリング操作における優れた一貫性と性能を保証します。優れた電子特性と耐久性を提供するように設計されたこのターゲットは、様々なハイテク産業における精密薄膜蒸着や高度なコーティングプロセスに最適です。
バリウムセリウムイットリウムジルコネートスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイスの均一な薄膜形成に最適です。
- 半導体製造:精密な膜特性を達成するための高度な処理に使用されます。
- 表面コーティング様々な産業用工具や部品の高性能コーティングに最適です。
- 研究開発材料科学やナノテクノロジーの実験セットアップをサポートします。
バリウムセリウムイットリウムジルコネートスパッタリングターゲットパッキング
当社のバリウムセリウムイットリウムジルコネートスパッタリングターゲットは、製品の完全性を保つために細心の注意を払って梱包されています。各ユニットは、輸送中の損傷を防ぐために慎重に密封され、クッション材が使用されています。特定の出荷および取り扱い要件を満たすために、カスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: バリウムセリウムイットリウムジルコネートスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に薄膜蒸着、半導体製造、高度表面コーティング、材料研究に使用されます。
Q: このターゲットにはどのようなスパッタリング法が使えますか?
A: このターゲットはRFスパッタリングとDCスパッタリングの両方の手法に対応しています。
Q: 化学組成BaCe(1-x-y)Y(x)Zr(y)O3は何を示していますか?
A: この組成は、スパッタリング性能を高めるためにセリウム、イットリウム、ジルコニウムの置換を制御して最適化したセラミック酸化物を示しています。
Q: このスパッタリング・ターゲットのカスタマイズ・オプションはありますか?
A: はい、ターゲットは標準ディスクとして製造することも、特定のサイズや設計要件を満たすために特注することもできます。
Q: 出荷時のターゲットの品質はどのように保たれていますか?
A: 輸送中の汚染や損傷がないよう、静電気防止および保護手段を用いて梱包されています。