ガドリニウムセリウムオキサイドスパッタリングターゲットの説明
ガドリニウムセリウム酸化物スパッタリングターゲットは、Gd0.2Ce0.8O2から合成された高品質のセラミック複合材料で、純度99%以上を保証します。高度なスパッタリング用途向けに設計されたこのターゲットは、ディスクでのご提供のほか、特定の産業要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。そのユニークな組成により、安定した均一なスパッタリングが可能となり、コンタミネーションを最小限に抑えた高性能薄膜成膜に貢献します。半導体製造、光学コーティング、多様な表面工学プロセスに最適なこのターゲットは、厳しい条件下でも安定した性能を発揮します。
酸化ガドリニウムセリウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体および電子デバイス製造における均一な膜形成に最適です。
- 光学コーティング:レンズ、ミラー、光学フィルター用の高品質コーティングの成膜に使用されます。
- 表面技術さまざまな工業部品の耐摩耗性と腐食防止を強化する。
- 先端エレクトロニクス高性能電子機器の部品製造に欠かせない。
酸化ガドリニウムセリウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のスパッタリングターゲットは精密加工され、最適な品質を確保するために入念に検査されています。各ターゲットは防湿包装で真空密封され、保管および輸送中に原状を維持するために管理された条件下で出荷されます。ご要望に応じてカスタム包装も承ります。
よくある質問
Q: 酸化ガドリニウムセリウムはスパッタリングターゲットにどのような利点をもたらしますか?
A: 高純度で安定した組成により、均一なスパッタリングと優れた薄膜品質を実現し、高度なアプリケーションに対応します。
Q: スパッタリングターゲットのサイズはカスタマイズ可能ですか?
A: はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能であり、特定のアプリケーション要件を満たすためにカスタムメイドすることもできます。
Q: このスパッタリング・ターゲットを使用すると、どのような産業が最も恩恵を受けられますか?
A: 半導体製造、光学コーティング、先端エレクトロニクス、表面工学などの業界は、その高い性能から大きな恩恵を受けることができます。
Q: 材料の高純度(99%以上)は、その性能にどのような影響を与えますか?
A: 高純度であるため、成膜プロセスにおける汚染が最小限に抑えられ、その結果、膜の均一性が向上し、電気的・光学的特性が改善されます。
Q: ボンディング材料はスパッタリングターゲットでどのような役割を果たしていますか?
A: インジウムボンドとエラストマーボンドは、スパッタリングプロセス中の確実な取り付けと効果的な熱管理を保証し、ターゲットの全体的な安定性と性能に貢献します。