インジウム・アルミニウム・亜鉛酸化物スパッタリングターゲット 説明
インジウム・アルミニウム・亜鉛酸化物 (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 wt% スパッタリングターゲットは、精密スパッタリング成膜プロセス用に開発されました。99%以上の厳しい純度で製造されたこのターゲットは、一貫した性能と均一な膜形成を保証します。ハイテク産業に最適なこのスパッタリングターゲットは、薄膜製造において信頼性と高効率を実現します。
インジウム・アルミニウム・亜鉛酸化物スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体やディスプレイの金属酸化物層の成膜に広く使用されています。
- 半導体産業:集積回路や高度なマイクロ電子デバイスの製造に不可欠。
- 光学コーティング:極めて均一なレンズや光学フィルターの製造に応用されている。
- 太陽電池:太陽電池用途に不可欠な透明導電層の形成に利用される。
- 研究開発材料科学や表面工学研究の実験セットアップに最適です。
インジウム・アルミニウム・亜鉛酸化物スパッタリングターゲットの梱包
当社のスパッタリングターゲットは、その完全性と性能を維持するために慎重に梱包されています。製品は真空密封され、汚染を防ぐように設計されたカスタムパッケージングで固定され、各ターゲットがすぐに使用できる完璧な状態で届くことを保証します。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットは何に使うのですか?
A: スパッタリングターゲットは、電子機器、光学機器、その他の産業用アプリケーションの基板上に薄膜を蒸着する物理蒸着プロセスで使用されます。
Q: スパッタリングターゲットの純度は性能にどのように影響しますか?
A: 純度が高いほど(99%以上)、成膜時に不要な不純物を最小限に抑えることができ、均一な膜特性とデバイス性能の向上につながります。
Q: ターゲットは様々な形状にカスタマイズできますか?
A: はい、当社の製品は標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定の産業要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: このスパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、光学コーティング製造、太陽電池製造、様々な研究開発用途で広く使用されています。
Q: スパッタリングターゲットはどのように保管、取り扱えばよいですか?
A: ターゲットは清潔で乾燥した環境で保管し、汚染や物理的損傷を避けるため、適切な工具を使用して注意して取り扱う必要があります。