インジウムモリブデン酸化物スパッタリングターゲットの説明
酸化インジウム-モリブデン(In2O3/Mo)98/2 wt%スパッタリングターゲットは、高精度スパッタリングプロセス用に特別に設計されています。 99%以上の一貫した組成と純度を維持するように製造されたこのターゲットは、様々な蒸着システムに適合するディスクまたはカスタムメイドのフォーマットでご利用いただけます。酸化インジウムと酸化モリブデンのユニークな組み合わせにより、安定した性能を保証し、エレクトロニクスやその他のハイテク産業における高度なコーティングや薄膜アプリケーションのための信頼性の高い選択肢となっています。
インジウム-モリブデン酸化物スパッタリングターゲット用途
- マイクロエレクトロニクス半導体デバイスや集積回路の薄膜成膜に最適です。
- 光学コーティング:光学部品の反射膜や反射防止膜の製造に使用される。
- フラットパネルディスプレイ導電性と耐久性を高めるため、ディスプレイの製造工程で使用される。
- 太陽電池均一な薄膜層を提供することで、効率と性能の向上を支援する。
- 研究開発高純度スパッタリングターゲットを必要とする実験セットアップに適しています。
インジウムモリブデン酸化物スパッタリングターゲットの梱包
当社のスパッタリングターゲットは、輸送中の原状を維持するために厳重に梱包されています。
- 標準梱包:汚染を防ぐための真空密封容器。
- カスタマイズオプション:お客様のご要望に合わせた梱包で、安全な取り扱いと保管を保証します。
よくある質問
Q: 酸化インジウムモリブデン・スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主にマイクロエレクトロニクス、光学コーティング、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、各種研究開発用途の薄膜成膜に使用されます。
Q: 高純度(99%以上)はスパッタプロセスにどのように役立ちますか?
A: 高純度であるため、コンタミネーションを最小限に抑え、精密用途に不可欠な安定した膜特性を実現します。
Q: このスパッタリングターゲットの形状やサイズを特注できますか?
A: はい、この製品はディスクで入手可能です。また、特定のプロセス要件を満たすために特注することもできます。
Q: このターゲットのボンドの種類(インジウム、エラストマー)について何を考慮すべきですか?
A: 指定されたボンドタイプは、スパッタリングターゲットとその支持構造との間の信頼性の高い密着性を保証します。
Q: 保管・輸送中の品質を確保するために、ターゲットはどのように管理されていますか?
A: ターゲットは、汚染や物理的な損傷を防ぐために真空密封され、慎重に梱包されます。