マンガン酸ランタン銅(La2CuMnO6)スパッタリングターゲット 説明
ランタン銅マンガン酸塩(La2CuMnO6)スパッタリングターゲットは、精密スパッタリングプロセス用に設計されており、薄膜蒸着において優れた性能を発揮します。99%以上の高純度レベルとカスタムメイド設計のオプションにより、このターゲットは高度な電子、エネルギー、センサーアプリケーションの厳しい要件を満たします。独自の組成とインジウムおよびエラストマーとの結合により、スパッタリング中の安定性を実現し、研究および工業生産に理想的な選択肢となっています。
マンガン酸ランタン銅(La2CuMnO6)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:マイクロエレクトロニクスや太陽光発電における均一で高品質な薄膜の製造に最適。
- 半導体製造集積回路やセンサー部品の精密な成膜を保証します。
- コーティング技術:さまざまな基板上に耐摩耗性コーティングや導電性コーティングを施すのに最適です。
- 研究開発先端材料科学や物性物理学の実験セットアップをサポートします。
- カスタム産業アプリケーション:ハイテク産業におけるお客様独自のスパッタリング要件に対応します。
マンガン酸ランタン銅(La2CuMnO6)スパッタリングターゲットの梱包
当社のスパッタリングターゲットは、輸送中の原状を維持するために慎重に梱包されています。各ターゲットは、汚染や損傷から保護するためにしっかりと密封されており、小規模の研究注文から大規模な産業出荷まで対応可能な梱包オプションをご用意しています。
よくある質問
Q: La2CuMnO6スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: マイクロエレクトロニクス、半導体製造、コーティング技術、先端材料研究における薄膜蒸着に最適です。
Q: スパッタリングターゲットの高純度(99%以上)はどのように維持されているのですか?
A: ターゲットは、一貫して高純度であることを保証するために、高度な製造工程を用いた厳格な品質管理の下で製造されています。
Q: スパッタリングターゲットのカスタム形状を要求できますか?
A: はい、標準ディスクのほか、特定のプロセスや装置の要件に応じたカスタムメイドの形状も提供しています。
Q: "Type of Bond: Indium, Elastomer "は何を示していますか?
A: これはターゲットがインジウムとエラストマー材料で接着されていることを示します。これはスパッタリングプロセス中にターゲットを固定し、安定性を向上させるのに役立ちます。
Q: スパッタリングターゲットは使用前にどのように保管すればよいですか?
A: ターゲットの性能と寿命を維持するために、汚染物質のない清潔で乾燥した環境で保管することをお勧めします。