ランタンガレート(LaGaO3)スパッタリングターゲット 説明
ガレート酸ランタン(LaGaO3)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着における精度のために設計されています。厳格な品質管理の下で製造されたこのターゲットは、優れた純度と安定した性能を発揮します。最新のスパッタリングアプリケーションの厳しい要求を満たすように設計されており、エレクトロニクス、光学、研究用途に信頼性の高い均一な膜コーティングを提供します。標準ディスクやカスタムメイド設計を含む形状の多様性により、多様なスパッタリングシステムへの最適な統合が可能です。
ランタンガレート(LaGaO3)スパッタリングターゲット用途
- 電子デバイスや光学部品の薄膜形成
- 耐摩耗性と性能を向上させるアドバンストセラミックスコーティング
- 材料科学およびナノテクノロジーにおける研究開発
- 様々なハイテク産業用途における表面改質プロセス
- 高純度でカスタマイズ可能なターゲット形状を必要とする特殊スパッタリングプロセス
ランタンガレート(LaGaO3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のランタンガレート(LaGaO3)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中に製品の完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。 製品は真空密封されており、標準ディスク形状またはお客様の仕様に応じたカスタム寸法で供給することができます。
よくある質問
Q: ランタンガレート(LaGaO3)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に先端エレクトロニクス、光学、研究用途の薄膜蒸着に使用されます。
Q: このスパッタリングターゲットの純度はどの程度保証されていますか?
A: 純度99%以上を保証しています。
Q: カスタム形状は可能ですか?
A: はい、従来のディスクの他に、特定の要件に応じた特注形状の製造も可能です。
Q: 6.93 g/cm³という密度は、スパッタリング・プロセスにどのような影響を与えますか?
A: 指定された密度は、成膜プロセスにおいて安定した材料性能と安定したスパッタリング特性を保証します。
Q: このスパッタリングターゲットにはどのような接合方法が採用されていますか?
A: このターゲットは、スパッタリング条件下での性能を最適化するために、インジウムとエラストマーのボンディングを採用しています。