チタン酸ランタンリチウムスパッタリングターゲットの説明
チタン酸ランタンリチウムスパッタリングターゲットは、半導体および光学用途で使用される精密薄膜堆積法用に設計された高性能材料です。純度99%以上で製造され、厳しいスパッタリング条件下でも安定した膜質と信頼性の高い性能を保証します。このターゲットは、多様なアプリケーション要件に対応するため、ディスク形状またはカスタムメイドの構成で入手可能です。高度な組成と強固な接合特性により、最先端の電子デバイスや集積回路に最適です。
チタン酸ランタンリチウムスパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:キャパシタ、センサー、集積回路の薄膜成膜に最適です。
- 光学コーティング:高性能光学フィルターや反射層の製造に使用。
- 先端エレクトロニクス:MEMSデバイスや高精度電子部品の製造に適している。
- 研究開発:次世代のスパッタリングや成膜技術を開発する研究所で使用される。
チタン酸ランタンリチウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のチタン酸ランタンリチウムスパッタリングターゲットは、その高純度と構造的完全性を維持するために慎重に取り扱われます。真空密封包装を含むオプションで、お客様の仕様に従って包装されます。さまざまな保管や輸送の要件に対応するため、カスタム包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: チタン酸ランタンリチウムスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に、半導体製造、光学コーティング、先端電子部品の薄膜蒸着に使用されます。
Q: La(1-x)LixTiO3という組成の意味は何ですか?
A: この組成は、材料特性の精密な制御を可能にし、均一な成膜と信頼性の高いデバイス性能を達成するために極めて重要です。
Q: 99%以上の純度はどのようにして維持されているのですか?
A: 高度な製造工程と厳格な品質管理により、ターゲットの純度は99%以上に保たれています。
Q: ターゲットは特定のサイズや形状にカスタマイズできますか?
A:はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能であり、また特定のアプリケーション要件を満たすために特注することもできます。
Q: スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズがスパッタリングターゲットのリーダーである理由は何ですか?
A: スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズは、技術革新、品質、顧客満足に取り組んでおり、現代の電子・半導体産業の厳しいニーズを満たす高性能材料を一貫して提供しています。