ランタンストロンチウム銅酸化物スパッタリングターゲット 説明
ランタンストロンチウム銅酸化物スパッタリングターゲットは、高度な薄膜アプリケーション用に開発されました。高純度組成(99%以上)で作られており、均一性と信頼性が最も重要な成膜プロセスで優れた性能を発揮します。最先端の製造技術を駆使して設計されたこのターゲットは、マイクロエレクトロニクスや高温超電導体のデバイス製造に最適な性能を発揮します。
ランタンストロンチウム銅酸化物スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:マイクロエレクトロニクスデバイスや超伝導アプリケーションの均一な薄膜形成に最適です。
- マイクロエレクトロニクス:集積回路や半導体部品の製造に利用される。
- 研究開発:新しい電子材料を探求する実験セットアップやハイテク研究環境に応用される。
- 先端コーティング:高性能デバイスの保護膜や機能膜の形成に使用される。
ランタンストロンチウム銅酸化物スパッタリングターゲットパッキング
当社のランタンストロンチウム銅酸化物スパッタリングターゲットは、輸送および保管中の品質を維持するために慎重に梱包されています。
標準パッケージには、特定のアプリケーション要件を満たすためにカスタムサイズで利用可能な真空シールオプションが含まれています。
よくある質問
Q: 酸化ランタンストロンチウム銅スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 薄膜蒸着、マイクロエレクトロニクス製造、超伝導用途、先端材料研究に最適です。
Q: 純度99%以上とはどういう意味ですか?
A: ≥99%の純度は、スパッタリングプロセスにおいて高い一貫性と最適な性能を保証し、信頼性の高い高品質の成膜を実現します。
Q: ターゲットはカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状の他に、お客様の仕様に応じた独自のサイズや形状の要件を満たすために、ターゲットをカスタムメイドすることができます。
Q: このスパッタリングターゲットを使用すると、どのような産業でメリットがありますか?
A: 半導体製造、マイクロエレクトロニクス、超電導技術、先端研究分野などです。
Q: 出荷時の品質はどのように維持されますか?
A: ターゲットは、その完全性と品質を維持するために真空密封され、安全に梱包されます。