チタン酸リチウム(Li4Ti5O12)スパッタリングターゲットの説明
チタン酸リチウム(Li4Ti5O12)スパッタリングターゲットは、高度な工業用スパッタリング用途向けに設計されており、高純度で安定した性能を提供します。精密に製造されたこのターゲットは、ディスク状で入手可能で、特定の設計要件を満たすためにカスタムメイドすることもできます。1,533 °Cの高融点と3.43 g/cm³の密度を含む堅牢な物理特性により、耐久性と信頼性が重要な厳しい環境での使用に適しています。この製品は、半導体製造、薄膜蒸着、その他の高温プロセスで好んで使用されています。
チタン酸リチウム (Li4Ti5O12) スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:チップ製造や集積回路のスパッタリングプロセスに最適です。
- 薄膜蒸着:高品質の導電層および絶縁層の形成に使用されます。
- コーティング用途:耐腐食性、耐摩耗性コーティングの工業用途に使用される。
- 航空宇宙と防衛要求の厳しい航空宇宙用途の高温部品に適している。
- 研究開発先端材料科学の実験セットアップに最適。
チタン酸リチウム(Li4Ti5O12)スパッタリングターゲットパッキング
当社のチタン酸リチウムスパッタリングターゲットは、出荷中の製品の完全性と安定性を確保するために慎重に梱包されています。各ユニットは、汚染や機械的損傷を防ぐため、専用の梱包材でしっかりと密封されています。お客様のご要望に応じて、カスタマイズされた梱包も可能です。
よくある質問
Q: チタン酸リチウム(Li4Ti5O12)スパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: このスパッタリングターゲットは、半導体製造、薄膜蒸着、航空宇宙用途、先端材料研究に広く使用されています。
Q: 1,533 °Cという高い融点は、スパッタリング用途にどのようなメリットをもたらしますか?
A: 融点が高いため、スパッタリング・ターゲットは、その構造的完全性と性能を維持しながら、極端な処理温度に耐えることができます。
Q: 純度99%以上とはどのような意味ですか?
A: ≥99%の純度レベルは、不純物を最小限に抑え、ハイテク用途におけるターゲットの性能、一貫性、信頼性を高めることを保証します。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、チタン酸リチウム・スパッタリング・ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定のアプリケーションの要件を満たすためにカスタムメイドすることもできます。
Q: 梱包・出荷の際、ターゲットの品質を保証するためにどのような対策がとられていますか?
A: ターゲットは真空密封され、汚染や機械的損傷を防ぐために特別に設計された容器に梱包されます。