酸化プラセオジムニッケル(PrNiO)スパッタリングターゲットの説明
プラセオジムニッケル酸化物(PrNiO)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着プロセス用に設計されています。最高純度基準(99%以上)で製造されたこのターゲットは、標準的なディスク形状でご利用いただけるほか、特定のアプリケーションニーズに合わせてカスタムメイドすることも可能です。精度と均一性のために設計されたこのターゲットは、半導体製造、光学コーティング、研究環境での用途に最適で、性能と信頼性の両方を保証します。
プラセオジムニッケル酸化物(PrNiO)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体製造や精密コーティングに不可欠。
- 光学コーティング高品質の光学性能のための均一な成膜を提供します。
- 表面改質:表面特性を向上させるための先端材料加工に使用される。
- 研究開発実験セットアップや新規デバイスの開発に最適です。
プラセオジムニッケル酸化物(PrNiO)スパッタリングターゲットパッキング
当社のプラセオジムニッケル酸化物(PrNiO)スパッタリングターゲットは、保管および輸送中の品質を維持するために厳重に梱包されています。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: このスパッタリングターゲットの化学組成は?
A: ターゲットは酸化プラセオジムニッケル(PrNiO)で構成されています。
Q: ターゲットのカスタム形状を要求できますか?
A:はい、ターゲットはディスクとして入手可能ですが、アプリケーションのニーズに合わせてカスタムメイドすることも可能です。
Q: スパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A: ターゲットの純度は99%以上です。
Q: 融点と密度のパラメータは指定されていますか?
A: 現在のところ、融点と密度の値はありません(該当なし)。
Q: テクニカルサポートやカスタム仕様について教えてください。
A: カスタム・オーダーやその他の製品情報については、テクニカル・サポート・チームまでお問い合わせください。