スパッタリングターゲットの説明
このスパッタリングターゲットは、ユーロピウム(3 wt%)をドープした高純度ストロンチウムアルミネートで構成されており、薄膜蒸着プロセスにおいて卓越した性能を発揮します。厳格な品質管理の下で製造されたこのターゲットは、スパッタリング中の正確な材料移動が要求されるアプリケーションに最適です。ディスクや特注形状を含むカスタマイズ可能な形状により、研究用途にも産業用途にも汎用性の高いソリューションとなっています。
スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびディスプレイ産業で、均一な薄膜を成膜するために広く使用されています。
- 表面コーティング耐腐食性層や機能性層の基板コーティングに最適。
- 研究開発:先端材料研究所での実験セットアップやプロトタイプ製造に適している。
- 電子デバイス高性能電子部品やセンサーの製造に使用される。
スパッタリングターゲットの梱包
当社のスパッタリングターゲットは、原形を保ったままお客様のお手元に届くよう、細心の注意を払って梱包されています。標準梱包には、真空密封された個別ユニットが含まれますが、ご要望に応じてカスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: このスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体、ディスプレイ、コーティング産業用の薄膜蒸着や、先端材料開発のための研究開発で使用されます。
Q: ユーロピウムのドーピングは性能にどのような影響を与えますか?
A: 3 wt%のユーロピウムのドーピングは、ターゲットの発光特性を向上させ、フォトルミネッセンスと精密な材料変調を必要とする用途に適しています。
Q: ターゲットは形状やサイズをカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットはディスクで入手可能です。また、特定の設計やプロセス要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。
Q: 純度99%以上の意味は何ですか?
A: 99%以上の純度レベルは、薄膜品質に影響を与える不純物を低減し、スパッタリングプロセスの高性能と信頼性を保証します。
Q: スパッタリングターゲットはどのように取り扱われ、保管されるべきですか?
A: 汚染や物理的損傷を避けるために慎重に取り扱い、推奨される梱包ガイドラインに従って、清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。