チタン酸ストロンチウム ニオブ スパッタリング ターゲット 説明
チタン酸ニオブストロンチウムスパッタリングターゲットは、スパッタリング用途に最適な特性を確保するため、組成を精密に制御して製造された高性能材料です。薄膜蒸着用に設計されたこのターゲットは、卓越した安定性と純度(99%以上)を提供し、電子部品やデバイスの製造に最適です。カスタマイズ可能な形状と高品質な製造プロセスにより、一貫性と信頼性が最重要視される様々な先端産業用途に適しています。
チタン酸ニオブストロンチウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびディスプレイ技術における電子層の製造に最適です。
- 電子機器製造:コンピューター、センサー、通信機器用の高精度部品の製造に使用。
- 半導体産業:集積回路やマイクロエレクトロニクスのアプリケーションに優れた材料品質を提供する。
- 光学コーティング:均一な薄膜を必要とする高度な光学機器の製造に使用される。
チタン酸ニオブストロンチウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のチタン酸ストロンチウム・ニオブ・スパッタリング・ターゲットは、保管中および輸送中に純度と完全性を維持するため、厳重に梱包されています。
真空シール包装:通常、1袋5kgまたは1ドラム25kgですが、お客様の仕様に応じたオプションもご用意しております。
よくある質問
Q: このスパッタリングターゲットの組成は?
A: ターゲットは純度99%以上のSrNb(1-x)TixO3で構成されています。
Q: このスパッタリングターゲットが薄膜形成に適している理由は何ですか?
A: 高純度で組成が制御されているため、高精度スパッタリングプロセスにおいて優れた安定性と性能を発揮します。
Q: ターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットはディスク状で入手可能です。また、特定のアプリケーション要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。
Q: このチタン酸ストロンチウム・ニオブ・スパッタリングターゲットは通常どのような産業で使用されていますか?
A: エレクトロニクス、半導体、光学コーティング業界などで広く使用されています。
Q: 出荷時、スパッタリングターゲットの品質はどのように保たれますか?
A: 輸送中の完全性と品質を保つため、ターゲットは専用の梱包(1袋5kgまたは1ドラム25kg)で真空密封されています。