ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲット 説明
ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットは、高度なスパッタリングアプリケーション用に特別に設計された高性能製品です。 厳しい品質管理で製造されたこのターゲットは、卓越した純度と一貫性を提供し、薄膜蒸着プロセスにおける信頼性の高い性能を保証します。そのカスタマイズ可能な形状は、様々なスパッタリングシステムへの多目的な統合を可能にし、インジウムとエラストマーとのユニークな接合オプションは、安定性と使いやすさを向上させます。この製品は、高精度と材料の完全性が最優先される特殊な産業および研究用途に最適です。
ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体および光学コーティング産業におけるスパッタリングプロセス用に最適化されています。
- 先端研究:材料科学研究のための高純度ルビジウムを必要とする実験セットアップに利用されます。
- 計装:制御されたスパッタリング技術に依存する精密機器や装置での使用に適しています。
- カスタム製造:特殊な目的のために独自の寸法や形状のディスクが必要な用途に最適です。
ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットパッキング
当社のルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットは、高純度と完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。お客様の保管や輸送のご要望にお応えするため、特注の梱包ソリューションもご用意しております。
よくある質問
Q: ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットは一般的にどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、光学コーティング、先端研究所、精密機器などで広く使用されています。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットは標準ディスクとしてご利用いただけます。
Q: ルビジウム(Rb)ターゲットの高純度を保証する品質対策は何ですか?
A: 製品は、純度99%以上の厳格な品質管理プロトコルの下で製造されており、安定した性能を保証します。
Q: この製品にはどのような結合オプションがありますか?
A: ルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットは、耐久性とスパッタリングシステムへの統合を容易にするため、インジウムボンドとエラストマーボンドに対応しています。
Q: 梱包されたルビジウム(Rb)スパッタリングターゲットはどのように保管すればよいですか?
A: 品質を維持するために、ターゲットは清潔で乾燥した環境で保管することをお勧めします。