アルミニウム・リチウム(Al/Li)スパッタリングターゲット 説明
アルミニウムリチウム(Al/Li)スパッタリングターゲットは、精密スパッタリング用途向けに設計された高品位材料を提供します。99%以上の純度とカスタマイズ可能な形状により、このターゲットは安定した成膜性能と優れた膜の均一性を実現するよう最適化されています。リチウムの配合により機能特性が向上し、先端半導体デバイス、光学コーティング、その他のハイテク用途に適しています。さらに、1.56g/cm³の密度は、スパッタリング中の効率的なエネルギー伝達に貢献し、無駄を最小限に抑え、優れた薄膜品質を保証します。
アルミニウム・リチウム(Al/Li)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜形成半導体デバイス製造に最適
- 光学コーティング:高性能光学フィルムの作成に使用。
- ディスプレイ技術電子機器やスクリーンの製造に適している。
- 再生可能エネルギー・デバイス太陽電池やバッテリー技術の部品製造に役立つ。
- 研究開発:材料科学研究の実験セットアップに使用される。
アルミニウム・リチウム(Al/Li)スパッタリングターゲットの梱包
各ターゲットは、出荷中の損傷を防ぐため、カスタム設計の保護パッケージで個別に梱包されます。梱包オプションには、真空シールコンテナやクッションボックスなどがあり、お客様のご要望に応じて調整いたします。
よくある質問
Q: Al/Liスパッタリングターゲットは、従来のターゲットと比べてどのような利点がありますか?
A: Al/Liスパッタリングターゲットは、高純度であり、リチウムが含まれているため、成膜の均一性が向上し、材料特性が改善されます。
Q: スパッタリングターゲットは形状やサイズをカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定の要件を満たすために特注することもできます。
Q: Al/Liスパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、光学コーティング製造、ディスプレイ技術、再生可能エネルギー装置、および先端研究用途で広く使用されています。
Q: ターゲットの品質を保つにはどのように保管すればよいですか?
A: ターゲットは、汚染や損傷を防ぐため、元の保護パッケージのまま、管理された埃のない環境で保管する必要があります。
Q: なぜスパッタリングターゲットでは純度99%以上が重要なのですか?
A: 高純度であることにより、成膜プロセス中の不純物が最小限に抑えられ、ハイテク用途において優れた膜質と安定した性能を発揮します。