コバルト・タンタル・ジルコニウム(Co/Ta/Zr)スパッタリングターゲット 説明
コバルト・タンタル・ジルコニウム(Co/Ta/Zr)スパッタリングターゲットは、高精度薄膜蒸着アプリケーション用に設計されています。 純度99%以上の厳格な品質基準を満たすように製造されたこのターゲットは、ディスク形態で入手可能で、特定のユーザー要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。半導体製造、光学コーティング、その他信頼性の高いスパッタリング性能を必要とするアプリケーションに最適です。このターゲットの堅牢な設計と特殊なボンディングオプション(インジウム、エラストマー)は、成膜プロセス中の最適な密着性と寿命を保証します。
コバルト・タンタル・ジルコニウム(Co/Ta/Zr)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造マイクロエレクトロニクスデバイス用の均一な薄膜成膜を保証します。
- 光学コーティングレンズ、ミラー、その他の光学部品に高品質の膜を提供します。
- 研究所先端材料研究の実験セットアップに最適です。
- エネルギー・デバイス太陽電池やその他のエネルギー用途の部品製造に役立つ。
- カスタム産業プロセス:様々な産業における特殊なスパッタリング要件に適応可能です。
コバルト・タンタル・ジルコニウム(Co/Ta/Zr)スパッタリングターゲットパッキング
当社のスパッタリングターゲットは、製品の完全性を維持するため、製造および出荷プロセスを通じて慎重に取り扱われます。 お客様の多様なニーズにお応えするため、カスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。 製品は、輸送中の品質を維持するため、帯電防止、真空密封梱包で出荷することができます。
よくある質問
Q: Co/Ta/Zrスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、光学コーティング、研究所での薄膜蒸着に使用されます。
Q: 高純度を保証するために、ターゲットはどのように製造されますか?
A: ターゲットは、厳格な品質管理のもと、高度な製造技術を用いて製造され、純度99%以上を保証しています。
Q: スパッタリングターゲットのサイズや形状を特注できますか?
A: はい、製品はディスクとして入手可能であり、特定のお客様のご要望に応じてカスタムメイドすることもできます。
Q: このスパッタリングターゲットにはどのようなボンディングタイプがありますか?
A: このターゲットには、さまざまな加工ニーズに対応するため、インジウムおよびエラストマーボンディングのオプションがあります。
Q: スパッタリングターゲットの品質を維持するための保管方法を教えてください。
A: 汚染や物理的損傷を防ぐため、清潔で乾燥した環境、理想的には静電気防止、真空シールされたオリジナルのパッケージで保管する必要があります。