タンタルチタン(Ta/Ti)スパッタリングターゲット 説明
タンタル・チタン(Ta/Ti)スパッタリングターゲットは、スパッタリング成膜プロセスにおいて優れた性能を発揮するように設計されています。 純度99%以上の精度で製造されたこのターゲットは、様々なコーティングアプリケーションにおいて均一な膜厚と優れた密着性を保証します。 スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ社の高度な製造技術を活用し、現代の半導体およびエレクトロニクス産業が要求する厳しさを満たしています。 タンタルとチタンの組み合わせは、様々な操作環境においてスパッタリング効率と膜質を向上させるユニークな特性を提供します。
タンタル・チタン(Ta/Ti)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイスの均一なコーティングの製造に最適です。
- ディスプレイ製造フラットパネルディスプレイやOLEDスクリーンの精密なレイヤーの製造に適しています。
- 光学コーティング:高品質の反射膜や反射防止膜の成膜に使用される。
- 工業用コーティング:様々な工業用工具の耐摩耗性、耐腐食性表面の製造に使用される。
タンタルチタン(Ta/Ti)スパッタリングターゲットパッキング
当社のタンタルチタン(Ta/Ti)スパッタリングターゲットは、輸送中および保管中の完全性を維持するためにしっかりと梱包されています。
真空シール包装:5kg/パッケージ、25kg/ドラム。梱包オプションは、お客様のご要望に応じてカスタマイズ可能です。
よくある質問
Q: Ta/Tiスパッタリングターゲットを使用する主な利点は何ですか?
A: Ta/Tiスパッタリングターゲットは高純度で均一性が高く、半導体やコーティング用途において安定した薄膜成膜と膜密着性の向上を実現します。
Q: 特定の装置に合わせてサイズをカスタマイズできますか?
A: はい、さまざまなスパッタリング装置で必要とされる特定の寸法を満たすために、利用可能なサイズは完全にカスタマイズ可能です。
Q: ボンディングタイプはスパッタリングターゲットの性能にどのように影響しますか?
A: インジウムおよびエラストマーボンディングの使用により、熱安定性が向上し、スパッタリングプロセス中の応力が最小限に抑えられるため、ターゲットの寿命と性能が向上します。
Q: Ta/Tiスパッタリングターゲットの使用はどのような産業に役立ちますか?
A: 半導体製造、ディスプレイ技術、光学、工業用コーティングなどの業界は、Ta/Tiスパッタリングターゲットが提供する高性能と信頼性から恩恵を受けます。
Q: 99%以上の純度はどのように維持されているのですか?
A: 純度レベルは、厳格な品質管理と高度な精製プロセスによって達成され、各スパッタリングターゲットが精密用途に必要な高い基準を満たすことを保証しています。