ジルコニウム イットリウム (Zr/Y) スパッタリング ターゲット 説明
ジルコニウム・イットリウム(Zr/Y)スパッタリングターゲットは、精密薄膜蒸着において卓越した性能を発揮するように設計されています。 Zr/Yの組成と99%以上の純度で製造されたこのスパッタリングターゲットは、特定のプロセス要件を満たすためにディスクまたはテーラーメイド設計でご利用いただけます。インジウムとエラストマーによる高度な接合技術を活用したこのターゲットは、信頼性の高い密着性と均一な成膜を保証し、ハイテク産業用途に理想的な選択肢となります。その卓越した材料特性は、優れた膜質、耐久性、プロセス安定性に貢献します。
ジルコニウム・イットリウム(Zr/Y)スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイス集積回路やマイクロエレクトロニクス部品の製造に不可欠。
- 光学コーティング:光学装置の高品質反射層および反射防止層の成膜に最適。
- 表面技術耐久性と耐食性に優れたコーティングを提供することで、基板の性能を向上させます。
- 研究開発次世代の薄膜技術を開発するための実験セットアップに広く使用されている。
ジルコニウム・イットリウム(Zr/Y)スパッタリングターゲットパッキング
当社のスパッタリングターゲットは、材料の完全性を保つために細心の注意を払って梱包されています。各ターゲットは、保管および輸送中に最適な品質を確保するために、帯電防止対策や湿度管理などのオプションを備えたカスタム設計の容器にしっかりと梱包されます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットとは、ターゲット材料から原子を放出させ、基板上に蒸着させて薄膜を形成する物理蒸着プロセスで使用される高純度材料のことです。
Q: ジルコニウム・イットリウム・スパッタリング・ターゲットを使用する利点は何ですか?
A: 高純度、カスタマイズ可能な形状、信頼性の高い性能を提供し、高度な産業用途向けの均一で高品質な薄膜成膜を実現します。
Q: ジルコニウム・イットリウムターゲットの品質はどのように維持されていますか?
A: 当社の製造工程は、一貫して99%以上の純度レベルを達成・維持するための厳格な品質管理手段を組み込んでおり、要求の厳しい用途において最適な性能を保証します。
Q: ターゲットは特定のサイズにカスタマイズできますか?
A: はい、スパッタリング・ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、独自のプロセス仕様に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: このスパッタリングターゲットは通常どのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、マイクロエレクトロニクス、光学コーティング、先端薄膜アプリケーションの研究開発現場で理想的に使用されています。