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Stanford Advanced Materials
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  • ST0526 三硫化ヒ素（As2S3）スパッタリングターゲット

    • ST0526 三硫化ヒ素（As2S3）スパッタリングターゲット

    カタログ番号 ST0526
    構成 As2S3
    CAS番号 該当なし
    純度 ≥99%
    形状 ディスク、オーダーメイド
    Diameter 2インチ、3インチ、4インチ、5インチ、6インチ、またはカスタムサイズ
    Thickness 0.25インチ、0.125インチ、またはカスタム仕様
    Bond Type 銅、またはカスタマイズされた

    スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ社は、先端材料における革新と品質へのコミットメントで有名です。特殊なスパッタリングターゲットに関する広範な専門知識を持つSAMは、最新の産業アプリケーションの高い要求を常に満たす製品を提供しています。

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    ST0001 アルミニウム（Al）スパッタリングターゲット
    ST0003 バリウム（Ba）スパッタリングターゲット
    ST0005 ホウ素（B）スパッタリングターゲット
    ST0006 カドミウム（Cd）スパッタリングターゲット
    ST0007 カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット
    ST0008 セリウム（Ce）スパッタリングターゲット
    ST0009 クロム（Cr）スパッタリングターゲット
    ST0010 コバルト（Co）スパッタリングターゲット
    ST0011 銅（Cu）スパッタリングターゲット

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      • 99.9%
      • 99.5%
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      • 99.999%
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      • 0.25''
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